3-脲丙基三甲氧基硅烷的应用

基本信息

3-脲丙基三甲氧基硅烷，英文名：1-[3-(Trimethoxysilyl)propyl]urea，CAS号：23843-64-3，分子量：222.314，密度：1.1±0.1 g/cm3，沸点：251.2±32.0°C at 760 mmHg，分子式：C7H18N2O4Si，熔点：<-25°C，闪点：105.7±25.1°C，为琥珀色透明液体。

应用

1、卫敏等人以3-脲丙基三甲氧基硅烷为偶联剂，制备了一种新型极性脲丙基-C30(TPU-C30)反相色谱固定相。以不同极性、位置异构、碱性化合物为溶质探针，以传统的C18色谱柱与C30色谱柱为参比，对制备的固定相的色谱性能进行了研究。研究结果表明，TPU-C30固定相具有不同于传统C18柱、C30柱的选择性和更优的择形性，明显改善了碱性物质的峰形，其具有广阔的应用空间^[1]。

2、李董艳在其论文中，基于表面印迹和抗原决定基印迹制备荧光增强型印迹材料及其应用。该印迹材料是以二氧化硅包覆的量子点为载体和荧光源，苯基磷酸为模板，3-脲丙基三甲氧基硅烷为功能单体，正辛基三甲氧基硅烷为交联剂，采用表面印迹和抗原决定基印迹法制得。根据印迹孔穴和模板分子的匹配作用，制备的印迹材料能识别模板分子苯基膦酸。苯基膦酸作为酪氨酸磷酸化多肽的“抗原决定基”，故该印迹材料也能够识别目标分子酪氨酸磷酸化多肽。在最优的条件下，该荧光材料对酪氨酸磷酸化多肽的检测范围为0.5-35 uM，检出限为0.37uM。该荧光材料对实际样品进行了分析，并取得了良好的效果^[2]。

3、专利CN201511027128.8公开了一种用于低K介电材料的清洗处理的清洗液组合物，该清洗液组合物包含抑制剂，该抑制剂为硅烷偶联剂，选自3-氨丙基三乙氧基硅烷、3-氨丙基三甲氧基硅烷、N-2(氨乙基)3-氨丙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油丙基三甲氧基硅烷、3-脲基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷中的一种或几种。本发明通过加入硅烷偶联剂类化合物,制备的清洗液组合物对于低K介电材料的腐蚀速率低于行业内的标准(4Å/min)，有效地克服了低K介电材料腐蚀问题^[3]。

参考文献

[1]卫敏,金小青,赵岳星. 一种新型极性脲丙基-C30固定相的制备和性能评价[J]. 色谱,2019,37(2):143-148. DOI:10.3724/SP.J.1123.2018.09020.

[2]李董艳. 基于量子点与碳点的新型荧光印迹材料的制备及其应用[D]. 天津:南开大学,2015. DOI:10.7666/d.D795727.

[3]上海新阳半导体材料股份有限公司. 一种用于低K介电材料的清洗处理的清洗液组合物:CN201511027128.8[P]. 2016-05-04.