那诺-马斯特中国有限公司

目录

• 沉积系统 (8) TE热蒸发镀膜系统 (1) E-Beam电子束蒸发系统 (1) 磁控溅射系统 (4) PECVD等离子化学气相沉积系统 (2)
• 刻蚀系统 (6) RIE反应离子刻蚀系统 (3) ICP及DRIE刻蚀系统 (1) IBE离子束刻蚀系统 (1) RIE-PE刻蚀机 (1)
• 生长系统 (4) MOCVD设备 (1) ALD原子层沉积系统 (2) MOVPE设备 (1)
• 清洗去胶系统 (5) 等离子去胶清洗及灰化系统 (1) 单晶圆/掩模版兆声清洗机 (3) 大基片清洗/去胶/湿法刻蚀 (1)
• 半导体量测设备 (6)
• 匀胶机/旋涂仪 (1)