六氟乙烷新闻专题

本文主要介绍了常见的三种工业化生产六氟乙烷的方法，并介绍了对其提纯的几种处理方式，为制备高纯六氟乙烷提供了参考。

六氟乙烷在半导体与微电子工业中用作等离子蚀刻气体、器件表面清洗剂，还可用于光纤生产与低温制冷。因其具有无毒无臭、高稳定性而被广泛应用在半导体制造过程中，例如作为蚀刻剂、化学气相沉积(CVD)后的清洗气体，在等离子工艺中作为二氧化硅和磷硅玻璃的干蚀气体。

六氟乙烷化学式C2F6，纯度>99.7%，为无色、无臭、无味、不可燃的惰性气体。微溶于水，熔点-100.6℃，沸点-78℃，液体密度1.60g/ml。以碳型材料直接氟化并经低温精馏分离纯化可制得纯度大于99.7%的产品。六氟乙烷在微电子工业中用于等离子蚀刻及表面清洗。六氟乙烷一直是Kanto Denak公司和另两家日本公司的样品。Kanto Denka Kogyo公司计划在下一财政年度大规模工业化生产六氟乙烷，该产品作为下一代清洁气体用于高集程度的半导体生产。