氧化铟锡ITO

特性

氧化铟锡主要的特性是其电学传导和光学透明的组合。然而，薄膜沉积中需要作出妥协，因为高浓度电荷载流子将会增加材料的电导率，但会降低它的透明度。

应用

氧化铟锡薄膜最通常是用电子束蒸镀、物理气相沉积、或者一些溅镀沉积技术的方法沉积到表面。

氧化铟锡主要用于制作液晶显示器、平板显示器、等离子显示器、触摸屏、电子纸等应用、有机发光二极管、以及太阳能电池、和抗静电镀膜还有EMI屏蔽的透明传导镀膜。

ITO也被用于各种光学镀膜，最值得注意的有建筑学中红外线-反射镀膜(热镜)、汽车、还有钠蒸汽灯玻璃等。别的应用包括气体传感器、抗反射膜、和用于VCSEL激光器的布拉格反射器。

ITO薄膜应力规可以在高于1400 °C及严酷的环境中使用，例如气体涡轮、喷气引擎、还有火箭引擎。

氧化铟锡粉末及分散体

CN102015538A公开一种涉及表面经改性的氢氧化铟锡的附聚物，其具有80至98.9重量％的铟、2至20重量％的锡和0.01至1重量％的碳。

本发明还涉及用于制备表面经改性的氧化铟锡的附聚物的方法，其中该表面经改性的氢氧化铟锡的附聚物是在高于150℃且低于310℃的温度在空气下干燥，且接着在还原条件下煅烧。表面经改性的氧化铟锡的附聚物可经由此方法获得。

本发明还涉及用于制备表面经改性的氧化铟锡粉末及其分散体的方法，其中该表面经改性的附聚物和一或多种溶剂组合而得到混合物，该混合物通过分散单元转化为分散体，且液态成分任选地从该分散体中除去以获得粉末。

本发明还涉及用于制造涂布材料或成形材料的方法，其中使用氧化铟锡的附聚物或氧化铟锡粉末的分散体和在各个情况中的一或多种粘合剂。

参考文献

CN102015538A