四氟化碳
用途
四氟化碳高浓度时有麻醉作用，化学稳定性及热稳定性均好，对许多试剂呈惰性。四氟甲烷其高纯气及其配高纯氧气的混合气，是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，可作为低温致冷剂、等离子干法蚀刻剂、低温绝缘介质。四氟甲烷是目前微电子工业中用量最大的等离子体蚀刻气体，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。