上海创赛科技有限公司

名称:N-甲基吡咯烷酮（NMP）,99.5%，with molecular sieves， Water≤50 ppm (by K.F.)， MkSeal

品牌:PERFEMIKER

CAS号:872-50-4

货号:PA59047

规格:100ml/纯度:>99.5%，with molecular sieves， Water≤50 ppm (by K.F.)， MkSeal/价格:¥214.62

规格:500ml/纯度:>99.5%，with molecular sieves， Water≤50 ppm (by K.F.)， MkSeal/价格:¥505.68

规格:1L/纯度:>99.5%，with molecular sieves， Water≤50 ppm (by K.F.)， MkSeal/价格:¥697.76

链接:https://www.perfemiker.cn/product/234102.html

一、产品简介

N-甲基吡咯烷酮（N-Methyl-2-pyrrolidone，简称 NMP，1-甲基-2-吡咯烷酮）是一种高性能极性非质子溶剂，化学式为 C5H9NO，CAS 号为 872-50-4。本品为无色至微黄色透明油状液体，略带胺类气味，沸点高（约 202℃）、闪点适中（约 86–95℃）、蒸气压低，具有强极性（偶极矩 4.09 D、介电常数 32.2）与优异的热化学稳定性，可与水及醇、醚、酮、酯、卤代烃、芳烃等绝大多数有机溶剂以任意比例混溶，并能溶解众多聚合物、树脂与无机盐，素有"万能溶剂"之称。

本品对聚偏氟乙烯（PVDF）等关键粘结剂与多种工程高分子具有卓越溶解力，化学惰性良好、对碳钢与铝无腐蚀，在锂电、电子半导体、高分子加工、医药农药及工业萃取等领域发挥着不可替代的工艺溶剂与反应介质作用。产品密封、阴凉干燥、惰性气氛下储存，远离火源与强氧化剂，规范储运条件下性质长期稳定。

区别于普通低沸点溶剂，本品高沸点、低挥发、强溶解、热化学稳定，可在高温涂布、精密清洗与复杂反应中保持性能一致，大幅降低溶剂损耗与工艺风险，是新能源、电子、医药等高附加值产业的标准核心溶剂。

二、作用机制

1、极性非质子强溶解机制 NMP 分子含强极性的酰胺羰基与无酸性氢的非质子结构，可高效溶剂化阳离子而不与阴离子形成强氢键，对 PVDF、聚酰亚胺、芳纶等难溶高分子及多种有机/无机物展现卓越溶解力，是聚合、涂布与萃取的核心溶剂基础。

2、高沸点低挥发稳定机制 约 202℃ 的高沸点与低蒸气压，使其在高温涂布、烘干、相转化与回流反应中保持低损耗、高安全，避免低沸溶剂的快速挥发导致的组分偏移与工序失控。

3、热化学惰性机制 在中性及常规工艺条件下化学稳定（约 200℃ 内不分解），对碳钢、铝无腐蚀，不破坏多数反应底物；仅在强酸、强碱条件下发生水解，适配苛刻的工业连续工艺。

4、广谱互溶与萃取选择机制 与水及多数有机溶剂完全混溶，同时具备对芳烃、乙炔、酸性气体（CO₂、H₂S）的选择性溶解/吸收能力，可在萃取精馏、润滑油精制与气体净化中精准分离目标组分。

5、渗透增强与反应介质机制 作为药物透皮促渗剂与 API 合成反应介质，可调节体系极性、提升传质效率与反应动力学，并在农药、涂料、胶黏剂中充当助溶剂与分散剂。

三、主要应用领域

1、锂离子电池制造（核心应用） 作为正极浆料关键溶剂，溶解 PVDF 粘结剂并均匀分散 NMC、LFP 等活性材料（浆料含 NMP 50–70%），满足涂布、烘干工艺对高沸、稳定、低残留的刚性需求，直接决定极片均匀性与电池能量密度、循环寿命。

2、电子半导体与精密清洗 用于集成电路、LCD、PCB 等精密元件制造与清洗，以及光刻胶剥离（80–100℃ 去除聚酰亚胺等光刻胶、蚀刻后残余与颗粒），可替代含氯溶剂，提升高良率制程的洁净度。

3、高分子与膜材料加工 作为聚酰亚胺（Kapton®）、芳纶（Kevlar®/Nomex®）、PPS、PEEK 等工程塑料与 PVDF/聚砜/PES 分离膜的工艺溶剂，支撑干喷湿纺、相转化制膜与高温绝缘薄膜生产。

4、医药与农药合成 作为阿托伐他汀等 API 合成的反应溶剂与缩合介质，亦用于天然产物提取、结晶抗溶剂、透皮贴剂促渗剂，以及农药/除草剂配方溶剂，兼顾高溶解与可控蒸发。

5、工业萃取与气体净化 在芳烃抽提、乙炔提浓、丁二烯/异戊二烯提纯、润滑油精制及合成气脱酸（CO₂、H₂S）中作选择性萃取/吸收剂，回收率高、溶剂损耗低。

6、工业清洗与精细化工 用于重型脱脂、油漆剥离、电子与机械部件清洗，并作染料助剂、分散剂、润滑油抗冻剂及 HPLC 流动相组分，适配多场景配方需求。

四、使用方法与注意事项

使用方法 锂电浆料：依配方将 PVDF 粘结剂与活性材料加入 NMP 搅拌溶解/分散，控制固含量与黏度后涂布，烘箱中梯度升温回收 NMP（回收率 80–90%）。 电子清洗/光刻胶剥离：在 80–100℃ 下以 NMP 浸泡或喷淋处理，去离子水冲洗后干燥；电子级需控制金属离子与水分。 聚合/萃取反应：按工艺温度（通常 80–120℃）投料溶解或作萃取剂，反应毕减压蒸馏回收套用。 医药/分析：依 API 工艺或 HPLC 方法配制，高纯级现配现用。

注意要点 本品具可燃性（H227），应密封存于阴凉干燥、通风处，远离热源、火花与明火，禁止吸烟。 对皮肤有刺激性（H315）、严重眼刺激（H319），并可能损伤生育能力或胎儿（H360，生殖毒性），操作时佩戴耐化学手套、护目镜与防护服，在通风橱/良好通风处作业，避免皮肤黏膜接触与吸入蒸气。 具吸湿性，高纯/电子级需氮气保护或密闭储存，防止水分影响工艺纯度。 避免与强氧化剂、强酸、强碱、还原剂接触；不可排入地下水或污水系统，废液按危化品规范回收处置。 仅限实验室科研、工业与新能源制造使用，严禁人体应用、临床注射与食品添加。

五、总结与展望

N-甲基吡咯烷酮（NMP）凭借高沸点、强极性、广谱溶解、热化学稳定、低挥发与可循环回收等核心优势，成为锂离子电池正极浆料、电子半导体精密清洗、工程高分子与分离膜加工、医药农药合成及工业萃取领域的标准极性非质子溶剂。有效解决低沸溶剂挥发快、难溶高分子分散差、含氯溶剂污染重等行业痛点，全面满足新能源、电子信息、生物医药与高端材料产业的高精度需求。

当前基于本品搭建的锂电极片涂布体系、光刻胶剥离与晶圆清洗流程、聚酰亚胺/芳纶纺丝工艺、API 合成与气体净化方案，已广泛支撑动力电池、集成电路、航空航天绝缘薄膜、创新药与绿色化工等核心项目。随着新能源装机、半导体国产化、高性能膜材料与绿色制造持续升级，NMP 将在锂电、电子、医药与新材料领域持续发挥关键支撑作用，为全球产业提供高纯稳定、低耗可循环的"万能溶剂"保障，助力制造效率提升与绿色转型。