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发布人:宁波巯晟新材料有限公司
发布日期:2026/7/28 18:28:59
2026年4月1日,礼来Orforglipron(商品名Foundayo)获FDA批准——全球首款非肽类口服小分子GLP-1受体激动剂正式上市。一周之内,全球40多个国家提交上市申请。
辉瑞的Danuglipron虽然III期终止,但其工艺改进论文(DOI: 10.1021/acs.oprd.6c00144)是制药界工艺化学的标杆——7步变5步,总收率34%→64%,PMI砍70%。
恒瑞的HRS-7535(大中华区外称KAI-7535)III期HARBOR-1试验44周数据发布,180mg组平均减重11.1%——已授权Kailera开发大中华区以外权益。
闻泰的VCT220关键III期840人试验成功。
阿斯利康超20亿美元引进诚益生物ECC5004,Elecoglipron进入III期。
**小分子GLP-1赛道正在爆发。但有一个问题,几乎所有玩家都在"做加法"——更多试验、更大市场、更快审批——却很少有人注意到:**这些小分子GLP-1的合成路线,几乎无一例外依赖钯催化偶联反应。**而钯催化带来的残留金属,是ICH Q3D规定口服药必须控制在10 ppm以下的"看不见的瓶颈"。
这篇文章告诉你:为什么小分子GLP-1的钯残留比你想的更严重,为什么常规除钯方法不够用,以及巯基硅胶QSM-101如何解决。
所有在研/上市的小分子GLP-1受体激动剂,共享一个结构特征:多氮杂环骨架。
氮杂环是小分子GLP-1的"灵魂"——它们提供与GLP-1受体结合的关键氢键和极性相互作用。但氮杂环的存在也意味着:
需要钯催化偶联反应来"拼接"杂环片段(Suzuki、Buchwald-Hartwig等)
催化剂用量通常1-5 mol%(高氮密度偶联甚至需要5 mol%)
偶联完成后,Pd以Pd(0)形式残留,与氮原子形成螯合态——这种钯最难清除
辉瑞Danuglipron论文给出了一个让所有工艺化学家震惊的数字:
PI3Kα抑制剂候选物:粗品钯残留6292 ppm
这是5 mol% Pd催化剂+四邻位取代杂环偶联的真实后果。ICH Q3D口服限值是10 ppm——差距630倍。
而Danuglipron自身虽然只需C-O偶联(Pd负载相对较低),其初始Pd残留也在数百ppm量级。
对于Orforglipron、HRS-7535这类含多重氮杂环的小分子GLP-1,C-C Suzuki偶联后的钯残留很可能在500-3000 ppm范围。
辉瑞Danuglipron论文用了L-半胱氨酸水洗除钯,被很多人视为"标准方案"。但仔细看数据——
Danuglipron能靠L-半胱氨酸水洗达标,是因为:
C-O偶联,不是C-C偶联 — Pd催化剂负载低
偶联产物不含多重氮杂环螯合口袋 — Pd(0)不形成深埋态
含长脂肪酸侧链 — API脂溶性高,水洗不造成收率损失
串联流程设计 — 偶联→除钯→脱Boc→结晶,结晶本身进一步清钯
Danuglipron的钯"不难除",不是因为L-半胱氨酸"无所不能"。
Orforglipron含吡啶+嘧啶骨架(≥4个氮原子),HRS-7535含杂环稠环体系。这些分子与Danuglipron的根本差异:
核心机制:Pd(0)与吡啶/嘧啶氮原子形成双齿螯合。Pd-N螯合键解离能150-180 kJ/mol。室温中性水相条件下,L-半胱氨酸的巯基"够不到"深埋态钯——水溶性巯基配体无法与Pd-N螯合竞争。
SiliCycle的SiliaMetS Thiol(SPM32)是市面上最常见的硅胶硫醇清除剂。
在KRAS G12C赛道综述中,我们记录了一个关键数据:
室温中性条件下,硅胶硫醇两次处理:钯残留179 ppm
离ICH Q3D的10 ppm限值差18倍。
硅胶表面巯基(-SH)与钯的软酸-软碱配位在酸性条件下效果最佳。但室温中性条件(pH 7-8)下,Pd(0)-N螯合键解离速率常数太小(k < 10⁻⁶ s⁻¹),4-6小时处理窗口内几乎不解离,深埋态钯无法释放。
一句话:室温中性条件下,Pd-N螯合"打不开门",巯基硅胶只能清除已经游离的钯,无法攻坚深埋态。
QSM-101推荐使用条件为酸性(pH 1-6)。在酸性环境中:
巯基(-SH)保持配位活性形态——软酸Pd(0)与软碱-SH的HSAB匹配效应在酸性下最强
酸性条件下Pd(0)与API氮原子的螯合键被质子化削弱,深埋态钯更容易"浮出来"
升温至75°C → Pd-N螯合键解离速率进一步提升 → 释放更多螯合态Pd
第一步(0.5 g/g API,酸性条件,75°C,4-6h)将钯从500-3000 ppm降至20-50 ppm。
酸性条件,50°C,4-6h → 第二步(0.3 g/g API)将钯从20-50 ppm压到**<10 ppm**。
注意:Danuglipron论文中PI3Kα候选物从132→9→<10 ppm的三步路径,是"先L-半胱氨酸水洗→再两次过silica-thiol柱"。过柱意味着两次色谱分离**——这在大规模生产中是最不可接受的步骤之一。**
QSM-101两步法的核心优势:不需要过柱。搅拌→过滤→搅拌→过滤。批量处理,无需色谱设备。
QSM-101两步搅拌法:
不需要色谱设备(任何有搅拌釜和过滤器的车间都能做)
达标(<10 ppm)
批量处理(百公斤级→吨级无需额外设备投资)
你的API含几个氮原子? — ≥4个氮,L-半胱氨酸水洗单独不达标,必须用巯基硅胶攻坚
你的偶联是C-O还是C-C? — C-C Suzuki偶联Pd负载更高(2-5 mol%),螯合态钯比例更大
你的API水溶性如何? — 高水溶性的杂环型GLP-1,L-半胱氨酸水洗会造成收率损失
水洗快速粗除90%游离态钯
QSM-101只需攻坚螯合态残余(50-100 ppm→<10 ppm),填料用量减60%
小分子GLP-1 = 高氮密度杂环分子 = 钯催化偶联 = 钯螯合态残留严重。这不是"可能"的问题,是"一定"的问题
L-半胱氨酸水洗是优秀的粗除手段,但对螯合态Pd(0)去除率<20%,不能单独达标。Danuglipron用L-半胱氨酸够了,是因为它的钯"不难除"
进口硅胶硫醇室温中性条件下两次处理,终点179 ppm,仍不达标。需要过柱才能达标——而过柱在大规模生产中不可接受
QSM-101两步法(酸性升温搅拌→过滤),批量处理,<10 ppm达标。任何有搅拌釜和过滤器的车间都能做
最佳策略:L-半胱氨酸水洗粗除 + QSM-101固相攻坚,组合使用
Pfizer Danuglipron (PF-06882961) process improvement: Org. Process Res. Dev. 2026, DOI: 10.1021/acs.oprd.6c00144
ICH Q3D(R2): Guideline for Elemental Impurities. 2022.
Welch CJ et al. Palladium scavengers in API process development: Org. Process Res. Dev. 2005, 9, 186.
Garrett CE, Prasad K. Residual palladium in API: origins, control, and remediation: Adv. Synth. Catal. 2004, 346, 889.
KRAS G12C药物钯残留挑战综述(宁波巯晟,2026年6月30日).
L-半胱氨酸水洗 vs 巯基硅胶固相除钯对比分析(宁波巯晟,2026年7月28日).
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