氧化铪新闻专题

氧化铪通常用作光学镀膜材料，在高端领域的应用尚待开发。本文将介绍近年氧化铪在半导体领域的应用研究进展。

二氧化铪（化学式：HfO2）是最常见的铪化合物之一。二氧化铪为白色或灰色粉末。

由于晶体管器件尺寸的不断减小，作为MOSFET中栅极氧化物，氧化硅已经渐渐不能满足要求，2000年代中期氧化铪作为取代物渐渐出现在研究人员视线中 [i]，该材料是一种高k介电材料，也是少数与硅能保持热力学稳定的二元氧化物之一。因此，它可以自然地集成在逻辑元件和存储器设备中。例如，英特尔早在2007年就已经宣布在其处理器中加入铪基高k金属栅极[ii]。这种新型晶体管配方承诺能降低功耗，减少漏电，并在降低尺度的同时能保证良好的性能。

氧化铪不溶于水和一般无机酸，但在氢氟酸中缓慢溶解。与热的浓硫酸或酸式硫酸盐作用形成硫酸铪[Hf(SO4)2]，与碳混合后加热通氯生成四氯化铪(HfCl4)，与氟硅酸钾作用生成氟铪酸钾(K2HfF6)，与碳在1，500℃以上作用形成碳化铪HfC。由铪的碳化物、四氯化物、硫化物、硼化物、氮化物或水合氧化物直接高温灼烧制取。