三氟化氮

三氟化氮（NF3）是卤化氮中最稳定的无机化合物，可在铜的催化下由氨气与氟气制成。它可以用作氟化氢激光器的氧化剂，半导体、液晶和薄膜太阳能电池生产过程中的蚀刻剂。曾被试做火箭燃料。但由于三氟化氮属于温室气体，能加剧温室效应，因此有人认为应该限制这种化合物的使用。三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演“清洁剂”的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。

应用

三氟化氮广泛用于半导体技术，高能激光器和化学蒸汽淀积。与元素氟不同，氟化氮在压力高达75kgf/cm2时，易转变成凝聚态，并且堆积密度高达600g/L(氟化学杂志，1991，54，No.1～3，P37)。

制备方法

CN1384049A公开一种新的制备三氟化氮的方法，已发现三氟化氮在半导体、高能激光和化学蒸汽沉积等技术方面得到广泛应用。在－20℃～0℃温度和氟对起始的化合物的摩尔比不超过3的条件下，通过元素氟氟化在无水氟化氢中的尿素或其与解产物，制备三氟化氮。无水氟化氢中起始化合物的浓度优选为20～50%(重量)。上述方法具有爆炸安全性，并且产品中三氟化氮具有含量而混合物的浓度最小，产率达到90%。

危害

加热时，分解。生成含有氟的有毒烟雾。该物质是一种强氧化剂。与可燃物质和还原物质发生反应。与氨，一氧化碳，乙硼烷，氢，硫化氢，甲烷和四氟肼 急剧地发生反应，产生爆炸的危险。浸蚀金属。遇到电火花，该物质分解。

长期或反复接触三氟化氮可能对肝和肾有影响，反复或长期吸入，可能引起氟中毒。