三氟化氮
三氟化氮（NF3）是卤化氮中最稳定的无机化合物，可在铜的催化下由氨气与氟气制成。它可以用作氟化氢激光器的氧化剂，半导体、液晶和薄膜太阳能电池生产过程中的蚀刻剂。曾被试做火箭燃料。但由于三氟化氮属于温室气体，能加剧温室效应，因此有人认为应该限制这种化合物的使用。三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演“清洁剂”的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。
2023-05-31
三氟化氮的合成工艺
三氟化氮在半导体工业中主要用于化学气相淀积(CVD) 装置的清洗。三氟化氮可以单独或与其它气体组合，用作等离子体工艺的蚀刻气体，例如NF3、NF3/Ar、NF3/He用于硅化合物MoSi2的蚀刻；NF3/CCl4、NF3/HCl既用于MoSi2的蚀刻，也用于NbSi2的蚀刻。
2020-11-25
三氟化氮（NF3）的主要应用
三氟化氮（NF3）主要用途是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分（约25%）可以以激光辐射释放出，所 HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。
2020-10-23
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