三氟化氮
三氟化氮（NF3）是卤化氮中最稳定的无机化合物，可在铜的催化下由氨气与氟气制成。它可以用作氟化氢激光器的氧化剂，半导体、液晶和薄膜太阳能电池生产过程中的蚀刻剂。曾被试做火箭燃料。但由于三氟化氮属于温室气体，能加剧温室效应，因此有人认为应该限制这种化合物的使用。三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演“清洁剂”的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。
2023-05-31
三氟化氮的合成工艺
三氟化氮在半导体工业中主要用于化学气相淀积(CVD) 装置的清洗。三氟化氮可以单独或与其它气体组合，用作等离子体工艺的蚀刻气体，例如NF3、NF3/Ar、NF3/He用于硅化合物MoSi2的蚀刻；NF3/CCl4、NF3/HCl既用于MoSi2的蚀刻，也用于NbSi2的蚀刻。
2020-11-25
三氟化氮（NF3）的主要应用
三氟化氮（NF3）主要用途是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分（约25%）可以以激光辐射释放出，所 HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。
2020-10-23
推荐新闻
胡椒乙腈的一种连续流制备工艺
2026/10/08
牛磺酰胺盐酸盐的制备与缩合反应
2026/10/08
4-环己基苯酚的应用及合成
2026/10/08
全氟环戊烯的合成及下游产物
2026/10/08
苯氨基甲酸甲酯的应用及合成
2026/10/08
(R)-对甲苯磺酸缩水甘油酯的性质与应用
2026/10/08
最新发布
玻璃板式反应器的工作原理及应用
16:41
高压恒流双柱塞泵的特点与应用
16:26
自动背压阀的特点与工作原理
16:13
2-甲基丁酸丁酯由阳离子交换树脂催化合成
8:01
催化合成2,5-己二醇的方法
8:01
5-HT4抗体在胃肠动力研究中的应用
8:01