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碳化硅溅射靶

碳化硅溅射靶,,结构式
碳化硅溅射靶
  • CAS号:
  • 英文名:SILICON CARBIDE SPUTTERING TARGET, 50.8MM (2.0IN) DIA X 3.18MM (0.125IN) THICK, 99.5% (METALS BASIS)
  • 中文名:碳化硅溅射靶
  • CBNumber:CB1660175
  • 分子式:
  • 分子量:0
  • MOL File:Mol file
碳化硅溅射靶上下游产品信息
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碳化硅溅射靶生产厂家
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