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碳化硅溅射靶
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碳化硅溅射靶
中文名称:
碳化硅溅射靶
英文名称:
SILICON CARBIDE SPUTTERING TARGET, 50.8MM (2.0IN) DIA X 3.18MM (0.125IN) THICK, 99.5% (METALS BASIS)
CAS号:
分子式:
分子量:
0
EINECS号:
Mol文件:
Mol File
"碳化硅溅射靶"相关产品信息
碳化硅
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