Основные атрибуты  химическое свойство Информация о безопасности химические свойства, назначение, производство запасные части и сырье поставщик
 структурированное изображение

TRI-T-BUTOXYSILANOL

  • русский язык имя
  • английское имяTRI-T-BUTOXYSILANOL
  • CAS №18166-43-3
  • CBNumberCB4281971
  • ФормулаC12H28O4Si
  • мольный вес264.43
  • номер MDLMFCD00271024
  • файл Mol18166-43-3.mol
химическое свойство
Температура плавления 63-65 °C(lit.)
Температура кипения 205-210 °C(lit.)
плотность 0,92 g/cm3
Fp >65°C
температура хранения Inert atmosphere,Room Temperature
форма solid
пка 11.78±0.53(Predicted)
Гидролитическая чувствительность 7: reacts slowly with moisture/water
Чувствительный moisture sensitive
UNSPSC Code 12352103
NACRES NA.23
Заявления об опасности и безопасности
Заявления о рисках 36/37/38
Заявления о безопасности 22-24/25
WGK Германия 3
TSCA No

рисовальное письмо(GHS)

  • рисовальное письмо(GHS)

    GHS hazard pictograms

  • сигнальный язык

    предупреждение

  • вредная бумага

    H315:При попадании на кожу вызывает раздражение.

    H319:При попадании в глаза вызывает выраженное раздражение.

    H335:Может вызывать раздражение верхних дыхательных путей.

  • оператор предупредительных мер

    P264:После работы тщательно вымыть кожу.

    P280:Использовать перчатки/ средства защиты глаз/ лица.

    P302+P352:ПРИ ПОПАДАНИИ НА КОЖУ: Промыть большим количеством воды.

    P305+P351+P338:ПРИ ПОПАДАНИИ В ГЛАЗА: Осторожно промыть глаза водой в течение нескольких минут. Снять контактные линзы, если Вы ими пользуетесь и если это легко сделать. Продолжить промывание глаз.

    P332+P313:При возникновении раздражения кожи: обратиться за медицинской помощью.

TRI-T-BUTOXYSILANOL химические свойства, назначение, производство

Использование

Tris(tert-alkoxy)silanols reacts with tetrakis(dimethylamino)-hafnium vapor(Hf(N(CH3)2)4) for vapor phase deposition of hafnium silicate glass films. Tris(tert-butoxy)silanol is used for atomic layer deposition (ALD) of highly conformal layers of amorphous silicon dioxide and aluminum oxide nanolaminates.

Общее описание

Tris(tert-butoxy)silanol can react with various metal alkyl amides to act as precursors for vapor deposition metal silicates. It also acts as a suitable precursor for deposition of silica.

TRI-T-BUTOXYSILANOL поставщик

поставщик телефон страна номенклатура продукции благоприятные условия
+86-371-66670886 China 19902 58
+undefined-21-51877795 China 32965 60
+86-0371-86658258
+8613203830695
China 29871 58
0086-577-64498589 CHINA 998 58
18871490254 CHINA 28172 58
+86-023-6139-8061
+86-86-13650506873
China 39894 58
18503026267 CHINA 9636 58
+86-0551-65418671
+8618949823763
China 34563 58
+86-0086-577-64498589
+86-15355981851
China 14430 58
731-88557738
+8613739093081
CHINA 291 58