二氧化铪
- 中文名称:二氧化铪
- 中文别名:氧化铪(III);Hafnium (IV)鎜xide (99.998%-Hf) PURATREM;氧化铪 (METALS BASIS EXCLUDING ZR), ZR <1.5%;氧化铪 ;氧化铪,99.95%,(METALSBASISEXCLUDINGZR),ZRTYPICALLY<0.5%;氧化铪,SPECTROGRAPHICGRADE,99.9%(METALSBASISEXCLUDINGZR),ZRTYPICALLY<50PPM;氧化铪(IV), 99.995%, (METALS BASIS EXCLUDING ZR), ZR TYPICALLY <0.2%;氧化铪, 99.95%, (METALS BASIS EXCLUDING ZR), ZR TYPICALLY
- 英文名称:Hafnium oxide
- CAS No:12055-23-1
- EINECS号:235-013-2
- 分子式:HfO2
- 产品类别:无机盐
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高纯氧化铪微纳级氧化铪喷涂氧化铪 蒸镀二氧化铪
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CAS:12055-23-1
英文名称:Hafnium oxide
纯度:99.9% HPLC
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上海
上海联田材料科技有限公司
用途
二氧化铪用作电子器件的绝缘材料,尤其在微电子技术中作为栅氧层材料,也用于光学涂层和耐磨材料。