光学镀膜材料，溅射靶材

Hafnium oxide
12055-23-1

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天津更新日期：2026-01-04

天津十七元素科技有限公司

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产品详情:

中文名称：: 氧化铪

英文名称：: Hafnium oxide

CAS号：: 12055-23-1

品牌：: 有研稀土

产地：: 北京

保存条件：: 密封

纯度规格：: 99.99%

产品类别：: 镀膜材料

货号：: NA

是否进口：: 否

用途：: 蒸发镀膜材料，溅射镀膜材料，贵金属材料

产品规格：: 99.99%

光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程.在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求.常用的镀膜法有真空镀膜和化学镀膜.

溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。溅射靶材有金属，合金，陶瓷化合物等。

磁控溅射镀膜靶材：

金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材，氮化物陶瓷溅射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材，硅化物陶瓷溅射靶材，硫化物陶瓷溅射靶材，碲化物陶瓷溅射靶材，其他陶瓷靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化铟靶材(InP)，砷化铅靶材(PbAs)，砷化铟靶材(InAs)。

高纯高密度溅射靶材有：

溅射靶材（纯度：99.9%-99.999%）

1. 金属靶材：

镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等金属溅射靶材。

2. 陶瓷靶材

ITO靶、AZO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等陶瓷溅射靶材。

3.合金靶材

镍铬合金靶、镍钒合金靶、铝硅合金靶、镍铜合金靶、钛铝合金、镍钒合金靶、硼铁合金靶、硅铁合金靶等高纯度合金溅射靶材。

镀膜材料;溅射镀膜材料;金银锆铪;难溶合金;靶材;

公司简介

天津十七元素科技有限公司,专心致力于稀有稀土小金属领域新材料的新技术开发与产品经营。产品广泛应用于国防军事、航空航天、科学研究、交通运输、建筑装饰、农业生产等领域。依靠其优厚的科研实力、先进的经营管理理念、强大的信息数据平台系统和灵活的定制化能力，与多所高校、研究院等开展了多项重大项目的课题，建立了广泛而深厚的交流与合作关系。

成立日期	(7年)
注册资本	100万元整
员工人数	10-50人
年营业额	￥ 300万-500万
经营模式	贸易,试剂,定制,服务
主营行业	标准品和对照品,金属和陶瓷材料,合成材料,无机化合物,单质元素