六甲基二硅氮烷HMDS，999-97-3，150公斤/桶

一、性质

1. 物理性质

• 化学式：C₆H₁₉NSi₂，分子量为 161.39 g/mol。

• 外观与状态：常温下为无色透明液体，具有刺激性气味。

• 沸点：125-126℃，熔点：-78℃，挥发性较强。

• 溶解性：易溶于苯、乙醚、氯仿等有机溶剂，遇水会缓慢水解生成六甲基二硅氧烷和氨。

• 密度：0.77 g/cm³（25℃），折射率：1.407（20℃）。

2. 化学性质

• 水解反应：在潮湿空气中或与水接触时，会发生水解，生成六甲基二硅氧烷（HMDO）和氨气（NH₃），反应式为：(CH3)3Si−NH−Si(CH3)3+H2O→(CH3)3Si−O−Si(CH3)3+NH3

• 亲核性：分子中的氮原子带有孤对电子，具有一定的亲核性，可作为硅烷化试剂，与含活泼氢的化合物（如醇、酚、羧酸等）反应，引入三甲基硅基（-Si (CH₃)₃）。

• 热稳定性：在惰性气氛中具有较好的热稳定性，但高温下可能分解产生硅氧烷类产物。

二、用途

1. 有机合成中的硅烷化试剂

• 保护基团：在有机合成中，常用于保护羟基、氨基等官能团。例如，在多肽合成中，保护氨基酸的氨基，避免其在反应中发生副反应；在药物合成中，保护醇羟基，提高反应的选择性。

• 催化剂载体：作为某些有机反应的催化剂或催化剂载体，如促进格氏反应、傅克反应等。

2. 半导体及微电子工业

• 表面处理：用于硅片、芯片等半导体材料的表面处理，形成疏水性的硅烷化层，改善表面性质，提高光刻胶的附着力和图案转移的精度。

• 气相沉积前驱体：在化学气相沉积（CVD）过程中，作为前驱体材料，制备二氧化硅、氮化硅等薄膜。

3. 涂料与涂层

• 添加剂：添加到涂料中，可提高涂层的耐水性、耐候性和耐磨性，常用于船舶涂料、防腐涂料等。

• 疏水涂层制备：通过水解缩合反应，在材料表面形成疏水涂层，用于玻璃、金属、陶瓷等表面的防水防污处理。

4. 医药与农药领域

• 药物中间体：作为医药中间体，参与多种药物的合成，如抗生素、抗病毒药物等。

• 农药合成：在农药合成中，用于制备具有特定结构的硅烷化衍生物，提高农药的药效和稳定性。

5. 其他用途

• 分析化学：用于制备气相色谱的固定相，或作为样品前处理的硅烷化试剂，改善样品的挥发性和分离效果。

• 实验室试剂：在实验室中，常用于干燥溶剂、去除痕量水分，或作为反应溶剂使用。

三、安全与储存注意事项

• 危险性：易燃，其蒸气与空气混合易形成爆炸性混合物；对眼睛、皮肤和呼吸道有刺激性，吸入或接触可能引起健康危害。

• 储存条件：应密封储存于阴凉、干燥、通风的库房中，远离火源和氧化剂，避免与水接触。

• 操作防护：操作时需佩戴防护手套、护目镜和防毒面具，保持良好的通风环境。