国产六甲基二硅氮烷999-97-3用于半导体制造

六甲基二硅氮烷(1,1,1,3,3,3-Hexamethyldisilazane)

CAS: 999-97-3

化学式: C6H19NSi2

六甲基二硅氮烷（也称为HMDS）是一种有机硅化合物，具有广泛的应用领域。以下是一些六甲基二硅氮烷的主要用途：

1. 化学品保护剂：六甲基二硅氮烷常用作化学品保护剂，可在某些实验室和工业应用中用于保护敏感的化学试剂或中间体。其可以形成无机硅氮层，保护化学物质免受湿度、氧气和杂质的影响。

2. 表面处理剂：六甲基二硅氮烷可用于提高材料表面的润湿性和附着性能。它可以被应用于涂层、胶粘剂、油墨和塑料等产品的生产中，以改善它们在不同表面上的性能。

3. 半导体制造：在半导体制造过程中，六甲基二硅氮烷常用作悬浮剂或服役态化学气相沉积（SACVD）的前驱物。它能够制造出高纯度的硅氮薄膜，用于半导体器件的绝缘层、阻挡层和传输层等关键组件。

4. 光刻底片涂料：六甲基二硅氮烷还可以被应用于光刻工艺中的底片涂料。它能够提高底片的平滑度、抗反射性和防粘附性，从而实现高质量的微影图案制备。