半导体气体

半导体制造业所使用的不同特种气体大致可以分为五大类：

      (1)易燃性气体：自燃、易燃、可燃气体等都定义为这类气体。如常温下的SiH4气体只要与空气接触就会燃烧，当环境温度达到一定情况下，PH3与B2H6等气体也会产生自燃。可燃易燃气体都有一定的着火燃烧爆炸范围，即上限、下限值。此范围越大的气体引起爆炸燃烧危险性就越高，如B2H6的爆炸上限为98%，爆炸下限为0.9%。属于易燃气体有H2、NH3、PH，、DCS、CIF3等等。

      (2)毒性气体：半导体制造行业中使用的气体很多都是对人体有害、有毒的。其中又以AsH3、B2H6、PH3等气体的毒性。这些气体在工作环境中的允许浓度极微，因此在贮存、输送以及使用的过程中都要求特别的小心。一般都应该采取特定的技术措施来控制使用这些气体。NO、C4F6等都属于毒性气体。

      (3)腐蚀性气体：这些腐蚀性气体通常同时也兼有较强的毒性。腐蚀性气体在干燥状态下一般不易侵蚀金属，但在遇到水的环境下就显示很强的腐蚀性，如HCI、HF、CIF3等。

      (4)惰性气体:这些气体本身一般不会直接对人体产生伤害，在气体传输过程中，相对于安全上的要求不如以上其他气体严格。但惰性气体具有窒息特性，在密闭空间若发生泄漏会使人窒息而造成工伤事故。属于这类的气体有C2F6、CF4等。

      (5)氧化性气体：这类气体有较强的氧化性，一般同时具有其他特性，如毒性或腐蚀性等。属于这类的气体有CIF3、NF3等。 高纯工业气体的供应方式一般有多种，如现场制气、用管道输送供气、槽车输送供气、外购气体钢瓶或钢瓶组输送供气等。具体采用哪种供气方式，主要考虑因素是工厂的生产规模和用气要求以及周边地区的气体供应状况等，既要做到确保供气质量、运行管理方便，还要降低产品的生产成本，以便安全、可靠、高效地供应气体。