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发布人:山东满堂红新材料有限公司
发布日期:2026/2/7 16:16:35
四甲基氢氧化铵(Tetramethylammonium hydroxide,TMAH),CAS 号 75-59-2(无水纯品),水合物为主要商用形态(五水合物 CAS 号 10424-65-4),分子式
(n=0/5,工业常用 n=5),分子量 91.15(无水)/181.23(五水),是最简单的四烷基季铵碱,为离子型含氮有机强碱,由四甲基铵阳离子与羟基阴离子通过离子键结合而成。其水溶液呈强碱性,化学性质活泼且纯度可精准调控,是电子半导体、有机合成、材料制备领域的专用精细化学品,电子级为核心应用品类,属腐蚀性危险品,需严格管控储运与操作。核心结构:氮原子与四个甲基形成饱和季铵阳离子,与羟基阴离子配对,无游离氨基,为典型季铵碱结构;无水纯品为离子晶体,水合物因氢键更稳定,工业上极少使用无水纯品,多以25%/10% 水溶液或五水结晶形态销售,兼具强碱性、催化性和相转移特性。
关键理化性质
外观形态:无水纯品为白色吸湿性结晶,易潮解、常温下易分解;五水合物为白色结晶粉末,25% 水溶液为无色透明粘稠液体,无明显异味;
溶解性:极易溶于水、甲醇、乙醇等极性溶剂,不溶于乙醚、苯、甲苯等非极性有机溶剂,水溶液完全解离,碱性与 NaOH、KOH 等无机强碱相当(25% 水溶液 pH≈14);
物理常数:无水品熔点 230℃(分解),五水合物熔点 62~65℃,25% 水溶液密度 1.09 g/cm³(25℃),闪点无明确值(水溶液),受热易分解(>130℃分解为三甲胺和甲醇,释放有毒碱性气体);
反应性:具强碱性和强催化性,可作为有机合成的缩合、重排、烷基化催化剂;与酸快速中和生成四甲基铵盐,与二氧化碳反应生成碳酸盐;对金属有轻微腐蚀性,与铝、锌等活泼金属反应生成氢气。
电子半导体工业:核心专用化学品(最主要应用)
电子级 TMAH 是半导体光刻工艺的显影剂,也是晶圆、面板的清洗剂 / 刻蚀剂,为芯片制造的关键配套材料:
光刻显影:作为正性光刻胶的显影剂,利用强碱性使曝光区域的光刻胶发生水解溶解,形成精细电路图案,适配硅片、晶圆、集成电路制造;
清洗 / 刻蚀:用于去除晶圆表面的光刻胶残留、金属氧化物杂质,以及液晶面板的玻璃基板刻蚀,低金属杂质特性避免污染电子器件,刻蚀精度高。
有机合成工业:强碱催化剂 / 相转移催化剂
工业级 TMAH 作为有机强碱非均相催化剂,用于缩合、重排、霍夫曼降解、烷基化反应,如合成医药中间体、精细有机化合物;同时作为相转移催化剂,提升非水相反应的速率和收率,与无机强碱相比,无无机盐残留,便于产物分离提纯。
材料制备工业:固化剂 / 改性剂
用作硅橡胶、有机硅树脂的高效固化剂,尤其是室温硫化硅橡胶,固化速度快、产物透明度高、无腐蚀性,广泛用于密封胶、胶粘剂、电子灌封胶;
作为环氧树脂、酚醛树脂的改性剂,提升树脂的柔韧性和粘接强度,适配高端涂料、电子封装材料。
分析化学:专用试剂
作为非水滴定的碱性基准试剂,用于有机酸、弱酸的滴定分析,滴定终点敏锐;也用作离子色谱的淋洗剂、毛细管电泳的缓冲液,适配精密分析检测。
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