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发布人:武汉吉业升化工有限公司
发布日期:2026/8/20 8:41:44
光刻胶显影、光刻胶剥离剂:作为 TMAH 环保替代品,用于芯片、OLED、Micro‑LED 面板,去除光刻胶、刻蚀后残渣,对铜布线腐蚀更小,晶圆表面更平整。
精密清洗:金属掩膜板清洗、先进封装残胶去除、TiN 薄膜湿法刻蚀、光伏硅片制绒清洗。
低金属离子污染,适合 28nm 及以下先进制程湿法工艺。
相转移催化剂、有机强碱:用于烷基化、缩合、酯化、羟醛缩合反应,可循环使用,替代无机碱(NaOH/KOH)。
离子液体前驱体:与有机酸中和制备胆碱基离子液体,避免氯化胆碱路线带来的氯离子杂质。
合成各类胆碱盐:制备酒石酸胆碱、柠檬酸胆碱等医药 / 饲料中间体。
工业清洗剂、脱脂剂:金属加工液、钢铁铝材除油,兼具碱洗 + 缓蚀效果。
pH 调节剂:涂料、胶黏剂、水处理体系调碱;表面活性剂、乳化剂组分。
纺织助剂:织物抗静电、柔软后整理、纤维改性助剂。
生化试剂,生化研究原料;作为胆碱源制备营养制剂原料。
注意:食品国标 GB14880 中一般不直接使用氢氧化胆碱,食品强化多用氯化胆碱、酒石酸氢胆碱;氢氧化胆碱碱性太强,极少直接用于食品体系。
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