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发布人：武汉吉和昌新材料股份有限公司
发布日期:2026/8/14 8:37:53
半导体光刻胶旋涂工艺中，微气泡残留、硅片基材润湿不足、膜层缩孔针孔、涂覆厚薄不均等缺陷，直接影响图形转移精度与晶圆良率，是光刻胶配方研发亟待攻克的技术难点。吉和昌生产销售的癸炔二醇润湿剂TL-J40A（2,4,7,9 - 四甲基 - 5 - 癸炔 - 4,7 - 二醇环氧乙烷加成物，CAS：9014-85-1） 为为双子型炔二醇聚醚，亲水亲油平衡适中，集润湿、抑泡、分散多重效能于一体，适配溶剂型、中低含水光刻胶体系，可有效解决传统助剂润湿与消泡难以兼顾的行业难题。
TL-J40A 可快速降低光刻胶体系动态与静态表面张力，在搅拌配胶、高速旋涂过程中抑制微泡生成，减少气泡瑕疵；强效浸润硅片低能基材，改善胶液铺展能力，有效规避鱼眼、针孔、缩孔不良，让光刻胶成膜更加均匀平整，保障显影线条轮廓清晰完整，提升图案转移保真度。产品不含 APEO，与光刻胶树脂、光引发剂相容性优异，不会干扰感光体系光化学反应，无硅污染风险，适配各类正胶、负胶配方开发。
在国产光刻胶国产化进程中，TL-J40A 兼顾工艺稳定性与配方兼容性，可优化旋涂、显影全流程表现，降低制程缺陷率，提升产品良率。作为高性能炔二醇功能助剂，TL-J40A 可为半导体光刻胶配方迭代提供可靠助剂解决方案，赋能微电子材料产业高质量发展。
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