电子级高纯溶剂一站式解决方案 ——G3/G4级品质，赋能半导体与OLED先进制程

在半导体与OLED面板制造的微观世界里，纯度即良率，洁净即生命。随着制程不断向14nm、7nm乃至5nm演进，每一滴电子级溶剂的纯度和洁净度，都直接决定着芯片的电性能、可靠性与面板的显示品质。国际半导体设备与材料协会（SEMI）标准将湿电子化学品分为G1至G5五个等级。其中，G3级是先进制程的“合格线”，G4级是高端制造的“标配线”——金属离子含量从G3级的亚ppb级跃升至G4级的ppt级（万亿分之一），颗粒物控制从0.2μm收紧至0.1μm（表1）。

表1 湿电子化学品等级分类、技术指标及应用

百灵威为您提供覆盖半导体与OLED全制程的G3/G4级电子级溶剂产品矩阵，以极致纯度护航每一道关键工艺。

 产品优势

全产品线覆盖：从光刻胶溶剂、清洗剂到显影液，一站式满足半导体与OLED制造需求。
G3/G4级品质保障：严格执行SEMI国际标准，金属离子含量低至ppt级，颗粒物控制达0.1μm。
国产化替代先锋：G4及以下通用型产品国产化率已达70%-90%，我们以稳定的供应链与卓越的品质，助力客户降本增效、保障供应安全。
先进制程验证：产品已广泛应用于14nm及以下先进制程芯片制造与OLED高世代线面板生产。

 应用场景

半导体与OLED制造涉及黄光制程、湿法清洗与蚀刻、面板制造及显影剥离四大核心工序，每一道工序对化学品的纯度与洁净度都有严苛要求。不同制程适用的产品系列总结如下（表2）：

表2 湿电子化学品在半导体与OLED制程中的应用

注：PGME与PGMEA常按7:3或8:2配比联用，是半导体黄光制程不可替代的溶剂组合。G4级产品金属离子含量≤0.1 ppb，颗粒物控制至0.2μm，已在12英寸芯片及OLED高世代线实现规模化应用。

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