什么是三氟甲磺酸酐，他都有哪些用途

三氟甲磺酸酐（缩写：Tf2O）是一个有机合成中应用非常广泛的试剂，常用于三氟甲酸酯类化合物的合成，尚澜气体每月可交付产品500kg，如有需要随时欢迎联系！！！

一、物质简介

三氟甲磺酸酐是三氟甲磺酸的酸酐衍生物，化学式为C₂F₆O₅S₂，CAS号358-23-6，密度1.67-1.68g/cm³，沸点81-83℃，熔点-80℃，闪点-0.6℃，折射率1.321-1.359，常温下为无色澄清液体，具有强烈刺激性气味，暴露于空气会快速吸潮发烟；

三氟甲磺酸酐具有腐蚀性，常温下可与金属、玻璃缓慢反应；具有强吸湿性，遇水剧烈水解生成三氟甲磺酸；不溶于水，与二氯甲烷、四氢呋喃等有机溶剂完全互溶；

三氟甲磺酸酐是有机合成中关键的酰化剂、催化剂及脱水剂，在医药、电子、新能源等高端制造领域不可或缺，2025年中国产能达1500吨/年，产品纯度多稳定在99.5%-99.9%区间。

二、主要用途

1.医药化工（核心用途）

关键药物合成：参与奥司他韦（抗流感）、索拉非尼（抗肿瘤）、瑞德西韦（抗病毒）等API的核心步骤，用于构建三氟甲磺酸酯活性位点或氨基保护基。

多肽合成：作为保护试剂，生成易脱除的三氟甲磺酰胺保护基，保障肽链结构完整性。

2.电子化学品

光刻胶配套：高纯度产品（99.99%以上）用于ArF浸没式光刻胶的光酸发生剂（PAG）制备，提升芯片制程分辨率至3nm级。

电解质添加剂：合成LiTFSI等锂盐，改善锂电池SEI膜稳定性。

3.材料科学

离子交换膜改性：引入磺酸酐基团提升燃料电池膜的离子传导率。

高端涂料：与丙烯酸树脂反应生成含氟涂层，赋予优异耐候性与抗污性。

4.有机合成

酰化/脱水：催化醇、胺生成酯或酰胺，促进羧酸脱水成酐；作为阳离子聚合催化剂，实现异丁烯低温快速聚合。