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发布人: 武汉吉业升化工有限公司
发布日期:2026/7/21 8:42:23
光刻胶剥离液、晶圆清洗液:温和还原型清洗剂,剥离光刻胶残留,不腐蚀铜、铝布线;
铜互连工艺抑制剂:选择性抑制铜过度蚀刻,控制线路精度;
湿法制程金属离子还原剂,去除 Fe³⁺、Cu²⁺等重金属杂质,提升芯片良率;
PCB 线路板微蚀辅助添加剂。
合成靛蓝、偶氮染料、蒽醌染料、荧光增白剂,通过肟化构建发色基团;
印染助剂:还原脱色剂、染料固色助剂,织物漂白还原;
染料中间体精制,还原硝基、亚硝基官能团。
橡胶硫化助剂:硫化促进剂、抗氧化剂,延缓橡胶老化、提升硫化均匀度;
聚合阻聚 / 终止剂:清除自由基,防止丙烯酸、苯乙烯、聚酯单体自聚;
塑料抗氧稳定剂,抑制高分子热降解;
合成特种聚酰胺、功能性树脂单体。
湿法冶金还原剂:还原 Au³⁺、Ag⁺、Hg²⁺得到单质金银;将 Fe³⁺、V⁵⁺、Cu²⁺还原为低价离子;
金属表面缓蚀剂、金属脱脂清洗助剂。
定量检测醛、酮(肟化法定量);
测定硒、钒、铁、铜等金属元素含量;
化工原料纯度检测标准还原剂。
肥皂、油脂抗氧化剂,防止酸败;
皮革加工助剂;
水处理还原剂,去除水体氧化性污染物;
有机合成通用还原试剂:还原硝基、亚硝基、偶氮化合物。
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