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聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶

基本属性 用途与合成方法 相关产品

聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶

中文名称:聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶
英文名称:polystyrene-N-(-4-hydroxyphyenyl) maleimide positive photoresist
CAS号:
分子式:
分子量:0
EINECS号:
Mol文件:Mol File
聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶 结构式

聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶 用途与合成方法

化学性质 
一种耐240℃以上高温的正性光刻胶，用JKG-1型光刻机曝光，曝光时间为60s，1μm厚，用0.2% NaOH水溶液显影，分辨率高于1.6μm，反差为2.7。
用途 
用于正性光刻胶。

"聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶"相关产品信息

马来酰亚胺
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