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光刻胶HDM-4100

光刻胶HDM-4100

中文名称:光刻胶HDM-4100
英文名称:Photoresist HDM-4100
CAS号:
分子式:
分子量:0
EINECS号:
Mol文件:Mol File
光刻胶HDM-4100 结构式

光刻胶HDM-4100 用途与合成方法

光刻胶是光刻工艺中的关键材料,主要应用于积体电路和分立器件的细微图形加工。

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北京天辰明威化工产品有限公司
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产品介绍:
中文名称:光刻胶HDM-4100
包装信息:1kg