三氟碘甲烷的应用
三氟碘甲烷（CF3I）作为半导体刻蚀气体用于3D NAND Flash先进制程，与同种刻蚀气体CF4，C4F6相比，三氟碘甲烷（CF3I）具有高选择性和高深宽比。它作为电气设备绝缘与灭弧气体用于温室气体SF6的替代，绝缘强度大约为SF6的1.23 倍以上，击穿分解后不会产生有毒产物。
2023-02-22
三氟碘甲烷的提纯方法和工业化生产方法
三氟碘甲烷(CF3I)，沸点为-22.5℃，临界压力为3.95MPa，标准大气压下为无色无味气体。CF3I作为灭火剂具有灭火效率高、安全性能好、经济效用高、灭火后不留痕迹等特点，是三氟一溴甲烷(哈龙1301)优选替代品种；作为制冷剂，CF3I不燃，具有油溶性和材料相容性很好的特点，被认为是传统氟利昂制冷剂组元的理想替代品之一。另外，CF3I在含氟中间体、半导体蚀刻、发泡剂等其他领域也具有广泛的应用
2020-10-29
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