N-芴甲氧羰基-S-三苯甲基-L-高半胱氨酸的应用及下游产物合成

N-芴甲氧羰基-S-三苯甲基-L-高半胱氨酸是一种‌用于多肽合成的保护氨基酸‌，外观为白色至类白色固体，无特殊气味，水中溶解度较低，可溶于甲醇、乙腈等有机溶剂‌‌。

主要用途

作为‌多肽固相合成‌中的关键原料，它相当于高半胱氨酸的“保护形式”——Fmoc 保护氨基，Trt 保护巯基，在合成过程中可防止副反应，并允许选择性脱保护以实现肽链的定向连接。‌‌

下游产物合成

N-[(9H-芴-9-基甲氧基)羰基]-L-同型半胱氨酸甲酯，收率： 87%。将碘甲烷（46 μl，0.73 mmol）加入0°C下无水DMF中，N-芴甲氧羰基-S-三苯甲基-L-高半胱氨酸（205 mg，0.34 mmol）和K₂CO₃（142 mg，1.02 mmol）的溶液中。将溶液加热至室温。在氩气氛围下搅拌8小时。完全转化后，用乙酸乙酯稀释反应混合物。用盐水洗涤。用Na₂SO₄干燥。过滤并浓缩。将酯衍生物重新溶解于无水二氯甲烷中。在氩气氛围下分批滴加三乙基硅烷（96 μl，0.6 mmol）和三氟乙酸（237 μl，3.1 mmol）。搅拌20分钟。在减压下除去溶剂。经柱色谱纯化（石油醚/乙酸乙酯 = 4/1）。[1]

L-同型半胱氨酰-L-精氨酰-L-丙氨酰-L-苯丙氨酰-L-丝氨酰胺，收率：75% 用 HATU（1.5 当量）和 DIEA（3 当量）在 DMF 中活化 TentaGelR RAM 树脂（0.1 mmol），持续 3 分钟。摇动混合物进行偶联反应 1.5 小时。将N-芴甲氧羰基-S-三苯甲基-L-高半胱氨酸（1.5 当量）和 OxymaPure（0.375 mmol，1.5 当量）溶解于 5 mL 1:1 的 DMF:DCM 混合溶剂中。将混合物冷却至 0 °C。用 DIC（0.35 mmol，1.4 当量）活化混合物 5 分钟。摇动混合物进行偶联反应 2-4 小时。要裂解 200 mg 树脂，需制备 13 mL 裂解混合液（95% TFA、2.5% H₂O、2.5% TIPS）。向肽-树脂混合物中加入由 94% TFA、2.5% 水、1% TIPS 和 2.5% EDT 组成的裂解混合液。振荡树脂 3 小时。通过过滤除去树脂。通入氮气以去除 TFA。向树脂中加入冷乙醚以沉淀肽。摇动混合物使其形成单相。将混合物在-20 °C下冷藏30分钟。以5000 RPM离心10分钟。倒去乙醚后，将肽重新悬浮于50%水和50%ACN的混合溶液中。将肽冷冻干燥至干。将所得粗肽溶解于ACN水溶液或含有盐酸胍的磷酸盐缓冲液中。通过制备型反相高效液相色谱（RP-HPLC）（55分钟内B相浓度从8%升至33%）对产物进行纯化。

3106255-68-6，收率：48% 将膨胀的 fmoc-Rink Amide Protide LL 树脂（0.18 mmolorg，0.28 g，0.05 mmol）在 DMF（3.0 mL）中浸泡 30 分钟。排干树脂，用 20% 哌啶/DMF 溶液（24 mL/mmol）处理以去除 Fmoc 基团，然后进行 SPPS。排干树脂，用预混合溶液处理，该溶液由N-芴甲氧羰基-S-三苯甲基-L-高半胱氨酸（4.0 当量）、溶于 DMF（16 mL/mmol）的 HATU（4.0 当量）以及溶于 NMP（8.0 mL/mmol）的 DIEA（8.0 当量）组成。在 75°C 下轻轻搅拌 20 分钟。排液后，用 DMF 洗涤树脂三次。在室温下用 20% 哌啶-DMF 溶液（24 mL/mmol）处理 3 分钟 × 1 次和 12 分钟 × 1 次，进行 Fmoc 基团去除，随后与下一个氨基酸进行偶联。重复偶联和脱保护步骤，以得到延伸后的线性肽。延伸后，向所得的肽结合树脂中加入预混合的化合物 6a、6b、 6c/6d（4.0当量）溶于NMP（16 mL/mmol）、HATU（4.0当量）溶于DMF（16 mL/mmol）以及DIEA（4.0当量）溶于NMP（3.0 mL）的预混合物，并在室温下搅拌40分钟。

参考文献

[1] Zhang, J., Liu, H., Teng, S., Liao, Z., Meng, L., Wan, Q., & Dong, S. (2023). An efficient metal-free desulfurization strategy promoted by Togni-II reagent. Chemical Communications, 59(43), 6513-6516.