毒性 硅 试剂级价格
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硅,7440-21-3,结构式
  • CAS号:7440-21-3
  • 英文名称:Silicon
  • 英文同义词:Silicon;111>SI002050;SI007908;SI007915;SI002011;SI002012;SI002015;SI003077;SI002080
  • 中文名称:
  • 中文同义词:硅;硅粉;矽粉;硅棒;硅块;硅片;硅柱;硅靶;硅多晶;硅单晶
  • CBNumber:CB4720557
  • 分子式:H4Si
  • 分子量:32.12
  • MOL File:7440-21-3.mol
硅化学性质
  • 熔点  :1410 °C(lit.)
  • 沸点  :2355 °C(lit.)
  • 密度  :2.33 g/mL at 25 °C(lit.)
  • 储存条件  :Flammables area
  • 形态 :powder
  • 颜色 :White
  • 比重 :2.42
  • PH值 :13.5 (H2O, 20°C)
  • 水溶解性  :INSOLUBLE
  • 敏感性  :Air Sensitive
  • Merck  :13,8565
  • 稳定性 :Stable. Fine powder is highly flammable. Incompatible with oxidizing agents, bases, carbonates, alkali metals, lead and aluminium oxides, halogens, carbides, formic acid.
  • InChIKey :BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N
  • CAS 数据库 :7440-21-3(CAS DataBase Reference)
  • NIST化学物质信息 :Silicon(7440-21-3)
  • EPA化学物质信息 :Silicon(7440-21-3)
安全信息

硅 MSDS


硅(粉)

硅 化学药品说明书


二甲硅油气雾剂|药典2005版

硅性质、用途与生产工艺

  • 毒性 三氯氢硅对人体有毒,其蒸气有窒息性臭味,强烈刺激呼吸道黏膜;其水解产物氯化氢、二氧化硅对肺有刺激,长期吸人可导致贫血。三氯氢硅最高容许浓度为1mg/m3
    生产设备要密闭,车间通风应良好。生产人员工作时要佩戴防毒口罩,密闭眼镜,穿工作服等劳动保护用品,以防止呼吸器官、眼睛和皮肤接触。中毒者应立即转移到新鲜空气中进行人工呼吸、输氧,注射葡萄糖及强心剂,并迅速送医院治疗。
  • 化学性质  具有灰色金属光泽的晶体。 溶于氢氟酸和硝酸的混酸中,不溶于水、硝酸和盐酸。
  • 用途  用作制造单晶硅的原料,还用于电子工业
  • 用途  是制造半导体硅器件的原料,用于制大功率整流器、大功率晶体管、二极管、开关器件等
  • 用途  用于制造半导体分立器件、功率器件、集成电路和外延衬底等。
  • 用途  主要用于制多晶硅、单晶硅、硅铝合金及硅钢合金等
  • 用途  用于制晶体管、整流器和太阳能电池,还用于制高硅铸铁、硅钢、各种有机硅化合物等
  • 用途  用作制备单晶硅的原料。
  • 用途  主要用作制多晶硅、单晶硅、硅铝合金及硅钢合金的化合物
  • 用途  用于制合金、有机硅化合物和四氯化硅等,是一种极重要的半导体材料。
  • 生产方法  三氯氢硅法将干燥的硅粉加入合成炉中,与通人的干燥氯化氢气体在280~330℃有氯化亚铜催化剂存在下进行氯化反应,反应气体经旋风分离除去杂质,再用氯化钙冷冻盐水将气态三氯氢硅冷凝成液体,经粗馏塔蒸馏和冷凝,除去高沸物和低沸物,再经精馏塔蒸馏和冷凝,得到精制三氯氢硅液体。纯度达到7个“9”以上、杂质含量小于1×10-7,硼要求在0.5×10-9以下。提纯后的三氯氢硅送人不锈钢制的还原炉内,用超纯氢气作还原剂,在1050~1100℃还原成硅,并以硅芯棒为载体,沉积而得多晶硅成品。其
    H2+C12→2HCl
    S+3HCl→SiHC13+H2
    SiHCl3+H2→Si+3HCl
  • 生产方法  工业生产有坩埚直拉法、悬浮区熔法、中子嬗变掺杂法。
    坩埚直拉法拉晶前先将设备各部件、合金石英坩埚、硅多晶和籽晶进行清洁处理。
    将硅多晶破碎除去石墨,经丙酮去油后,进行化学清洗,用无离子水洗至中性,再经超声波清洗,红外干燥,配料及掺杂,加入单晶炉的合金石英坩埚中,再经抽真空、熔化,在流通的氩气氛下,人工引晶放肩和收尾。晶体的等径生长过程中,需根据情况适当调节功率,使其获得直径均匀的产品,经检测、称量,制得硅单晶成品。
    悬浮区熔法先将设备和原料清洁处理,把硅多晶切断,磨后用丙酮去油,进行化学清洗,用无离子水洗至中性,再经超声波清洗,红外干燥,配料和掺杂,装炉,抽真空或充氩气。在氩气下高频加热进行区熔提纯单晶。预热、引晶、放肩、等径、收尾等过程,由人工控制。再经检测、称量,制得硅单晶成品。
硅上下游产品信息
上游原料
下游产品
硅 试剂级价格
  • 更新日期:2017/11/01
  • 产品编号:201560100
  • 产品名称:硅 Silicon 99+%, powder, -325 mesh
  • CAS编号:7440-21-3
  • 包装:10GR
  • 价格:198元
  • 更新日期:2017/11/01
  • 产品编号:201561000
  • 产品名称:硅 Silicon 99+%, powder, -325 mesh
  • CAS编号:7440-21-3
  • 包装:100GR
  • 价格:610元
硅生产厂家
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7440-21-3, 硅相关搜索:
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  • 硅溅射靶, 76.2MM (3.0IN) 直径 X 3.18MM (0.125IN) 厚, 99.999% (METALS BASIS)
  • 硅溅射靶, 76.2MM (3.0IN) 直径 X 6.35MM (0.250IN) 厚, 99.999% (METALS BASIS)
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  • 硅粉,晶体, APS ≈100NM, 99.9%, 等离子合成
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  • 硅粉, 晶体, APS ≤50NM, 99+%, 等离子合成
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  • 硅粉, 晶体, -100+200目, 99.99% (METALS BASIS)