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纳米氮化硅

纳米氮化硅,12033-89-5,结构式
  • 中文名称:纳米氮化硅
  • 中文别名:氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 50.8MM (2.0IN) 直径 X 6.35MM (0.250IN) 厚, 99.9% (METALS BASIS);氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 76.2MM (3.0IN) 直径 X 3.18MM (0.125IN) 厚, 99.9% (METALS BASIS);氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 76.2MM (3.0IN) 直径 X 6.35MM (0.250IN) 厚, 99.9% (METALS BASIS);氮化硅(IV), Α-相;氮化硅(IV), 99.3% (METALS BASIS), 通常 90% Β-相;氮化硅(IV),Α-相, 99.9% (METALS BASIS);氮化硅(IV), 无定形, 96+%;氮化硅(IV), 无定型, 98.5+%
  • 英文名称:Silicon nitride
  • CAS No:12033-89-5
  • EINECS号:234-796-8
  • 分子式:N4Si3
  • 产品类别:无机化工
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用途
纳米氮化硅、超细氮化硅粉通过特殊工艺方法制备，纯度高，粒径小，分布均匀，比表面积大，表面活性高，松装密度低。