纳米氮化硅
- 中文名称:纳米氮化硅
- 中文别名:氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 50.8MM (2.0IN) 直径 X 6.35MM (0.250IN) 厚, 99.9% (METALS BASIS);氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 76.2MM (3.0IN) 直径 X 3.18MM (0.125IN) 厚, 99.9% (METALS BASIS);氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 76.2MM (3.0IN) 直径 X 6.35MM (0.250IN) 厚, 99.9% (METALS BASIS);氮化硅(IV), Α-相;氮化硅(IV), 99.3% (METALS BASIS), 通常 90% Β-相;氮化硅(IV),Α-相, 99.9% (METALS BASIS);氮化硅(IV), 无定形, 96+%;氮化硅(IV), 无定型, 98.5+%
- 英文名称:Silicon nitride
- CAS No:12033-89-5
- EINECS号:234-796-8
- 分子式:N4Si3
- 产品类别:无机化工
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氮化硅纳米氮化硅，高纯氮化硅，20nm超细氮化硅Si3N4
CAS：12033-89-5
英文名称：Silicon nitride
纯度：99.9%
包装：1件
¥480
浙江
宁波罗飞纳米科技有限公司
用途
纳米氮化硅、超细氮化硅粉通过特殊工艺方法制备，纯度高，粒径小，分布均匀，比表面积大，表面活性高，松装密度低。