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镍蚀刻剂 TFB TFG

Nickel Etchant TFB TFG
1250 1BOX 起订
山东 更新日期:2020-04-23

青岛凯莫思生化科技有限公司

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产品详情:

中文名称:
镍蚀刻剂 TFB TFG
英文名称:
Nickel Etchant TFB TFG
保存条件:
常温避光通风保存
纯度规格:
高纯
产品类别:
Transene 美国川思

镍蚀刻剂 TFB 用于蒸发镍薄膜上的标准镍蚀刻剂

镍蚀刻剂 TFG 用于蚀刻电沉积镍薄膜的高纯蚀刻剂。镍蚀刻剂 TFG 与铜、砷化镓以及其他III

-V化合物相匹配。
   用于蚀刻镍、镍-铁合金和不锈钢的高纯蚀刻剂

特点 ·廉价经济

   ·与阳性、阴性光刻胶都相匹配
   ·线条轮廓清晰
   ·蚀刻速率均匀

全国免费电话:400-960-1017 Email: sales@echem360.com www.eChem360.com - 61 -

镍蚀刻剂I型

说明

Transene 薄膜蚀刻剂(镍 TFB 和镍 TFG)是高纯硝酸盐基蚀刻剂用于蚀刻蒸发或

电镀镍膜,镍蚀刻剂与阴、阳性光刻胶材料都具有良好匹配性。建议使用的光刻胶为 AZ-111,AZ-1350OH 和 KMER。镍蚀剂用于蚀刻金、镍、镍铬膜以制作电阻板。镍蚀刻 剂 TFG 与铜相匹配。

性质

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蚀刻剂

TFB

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TFG

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操作温度

25°C

40°C

蚀刻速率

30 Å /秒

50 Å /秒

镍沉积法

蒸发/阴极溅镀

化学镀/电镀

蚀刻能力

270g/加仑

-----

典型膜厚

1500 Å /5-50微英寸

-----

玻璃

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玻璃

应用 镍蚀刻剂是浸泡型购来马上可用的蚀刻剂,蚀刻速率通过操作温度加以控制。镍

通常在氧化铝基板上夹于金和镍铬或铬之间,对蒸发法或化学镀制的镍都适用。实际 蚀刻时要根据膜厚和操作温度控制蚀刻时间,不过对于蒸发法镍一般是 1 分钟,而对 于化学镀镍是 4 分钟。蚀刻过后应用水冲洗

镍蚀刻剂I型

说明 I型镍蚀刻剂是用于蚀刻镍、镍-铁合金、铁、氧化铁以及某些种不锈钢的高纯

蚀刻剂,他也可以蚀刻铜。和广范围光刻胶包括 KPR、Dynachem、AZ、 Riston 以及 屏幕光刻胶,都相匹配。I型镍蚀刻剂含有金属螯合剂成份以优化其性能。它不浸蚀 金膜。
性质

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操作温度

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30-60°C

玻璃

冲洗

蚀刻速率,Ni

3 密耳/小时,40°C

蚀刻速率,Ni-Fe

400 Å /秒,50°C

蚀刻速率,不锈钢

45 Å /秒,250°C AISI 316 105 Å /秒,130°C AISI 316 500 Å /秒,45°C AISI 304

蚀刻速率,Fe2O3

50 Å /秒,50°C

蚀刻速率,Cu

1 密耳/分,40°C

搅拌

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连续搅拌,中等速度

应用
I型镍蚀刻剂在较高温度,一般是 30-60°C操作。为了得到均匀蚀刻效果,一般

要进行连续搅拌。I型镍蚀刻剂可以蚀刻一系列金属,金属合金,和金属氧化物材料。

美国川思 Transene 蚀刻剂 原装进口

公司简介

青岛凯莫思生化科技有限公司是一家集化学试剂、仪器耗材、电子化学品等产品产销于一体的综合经销商。产品主要涵盖无机、有机和金属有机化合物,纯金属和元素,贵金属化合物和催化剂;玻璃仪器、科学仪器、实验室家具等仪器耗材;半导体微型电子产品、薄膜和厚膜混合体、微型电子线路、电子构件等电子化学品在内的上万种产品。能够为医药,生物科技,工业,教育,政府机构以及健康产业等不同行业客户的实验室以及工厂提供产品、服务和解决方案;可以满足科研人员进行各类研究和开发工作。 公司目前在中国、美国都设有仓储基地。中国仓储基地位于中国天津经济技术开发区,现拥有大型甲级化学品仓库和乙级化学品仓库,能够满足微量、大宗等产品的存储、分装、周转以及定制合成。美国仓储基地位于美国新罕布夏州的哈德逊。 公司目前化学试剂产品的库存就超过了10000种,生产和销售的仪器耗材类产品总数超过55000种。公司生产的电子化学产品被广泛应用于国内外半导体微型电子产品、薄膜和厚膜混合体、微型电子线路、电子构件和其他电子产品的研发和实验中。除此之外,依托于国内外先进的试验机构和实验室资源,我们在定制合成方面拥有丰富的经验和资源,可以根据客户需求

成立日期 (9年)
注册资本 100万
员工人数 1-10人
年营业额 ¥ 100万以内
经营模式 贸易,试剂,定制,服务
主营行业

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