中金研专业供应电子，半导体镀膜专用溅射靶材

北京中金研新材料科技有限公司（CNM）是坐落于中关村科技园区的国家高新技术企业，由业内龙头企业为发起人，整合了国内科研院校的优势资源，吸收国内外先进科学的管理经验而成立。人才储备丰富，资金力量雄厚，通过ISO9001:2008质量体系及ISO14001:2004环境管理体系认证，具有自主进出口权。

   北京中金研新材料科技有限公司在各种高纯材料、镀膜材料、溅射靶材、功能材料及应用技术研究开发方面，有着得天独厚的优势。以坚强的技术为基础，我公司开发了多个系列的新材料，这些产品牌号约百余种。已在航空航天、军工、信息电子、真空镀膜、冶金、功能材料、生物医药、新能源等行业获得广泛应用。目前拥有镀膜材料、溅射靶材、高纯材料、高纯合金等多条生产线，生产设备先进，工艺完善。

目前，我们的客户遍及美国．德国．日本．韩国．台湾．香港等十几个国家和地区，包括国内外科研军工，上市公司等知名企事业在内的六百余家单位。

    北京中金研新材料科技有限公司下设镀膜材料、溅射靶材、金属粉末、高纯材料等事业部，热烈欢迎新老客户垂询。我公司秉承以诚信为本，科技为本的理念，致力打造成金属新材料行业的领头羊。

磁控溅射靶材

（可为电子与半导体，平面显示行业，建筑与汽车玻璃行业，薄膜太阳能电池行业，磁存储行业，工具行业，装饰行业提供高品质靶材）

高纯单质金属溅射靶材（3N-6N）：铝靶Al，铬靶Cr，铜靶Cu，镍靶Ni，硅靶Si，锗靶Ge，铌靶Nb，钛钯Ti，铟靶In，银靶Ag，锡靶Sn，石墨靶C，钽靶Ta，钼靶Mo，金靶Au，铪靶Hf，锰靶Mn，锆靶Zr，镁靶Mg，锌靶Zn，铅靶Pb，铱靶Ir，钇靶Y，铈靶Ce，镧靶La，镱靶Yb，钆靶Gd，铂靶Pt等高纯单质金属溅射靶材。

高密度陶瓷溅射靶材（3N-5N）：ITO靶、AZO靶，IGZO靶，氧化镁靶MgO、氧化钇靶Y2O3，氧化铁靶Fe2O3,氧化镍靶Ni2O3，氧化铬靶Cr2O3、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化镉靶CdS，硫化钼靶MoS2，二氧化硅靶SiO2、一氧化硅靶SiO、二氧化锆靶ZrO2、五氧化二铌靶Nb2O5、二氧化钛靶TiO2,二氧化铪靶HfO2，二硼化钛靶TiB2，二硼化锆靶ZrB2，三氧化钨靶WO3，三氧化二铝靶Al2O3，五氧化二钽靶Ta2O5、氟化镁靶MgF2、硒化锌靶ZnSe、氮化铝靶AlN，氮化硅靶Si3N4，氮化硼靶BN，氮化钛靶TiN，碳化硅靶SiC，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶等高密度陶瓷溅射靶材.

备注：CNM生产的陶瓷靶材采用世界最先进的陶瓷生产工艺—惰性气体保护热等静压烧结技术，相对密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。

高纯合金溅射靶材：镍钒合金靶Ni-V，镍铬合金靶Ni-Cr，钛铝合金靶Ti-Al，硅铝合金靶Si-Al，铜铟合金靶Cu-In，铜镓合金靶Cu-Ga，铜铟镓合金靶Cu-In –Ga，铜铟镓硒靶Cu-In –Ga-Se，不锈钢靶，锌铝合金靶Zn-Al，钨钛 W-Ti，铁钴 Fe-Co，白铜靶等高纯合金溅射靶材。

备注：CNM生产的高纯合金溅射靶材：晶粒度小150-60um，相对密度高（99-99.9%），纯度高（99.9-99.999%）。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。