抛光用高纯纳米二氧化铈 50nm

纳米二氧化铈（CeO2）为淡黄色粉末，立方萤石结构，化学稳定性好，具有优异的储放氧能力和抛光选择性。本产品一次粒径约 50nm，纯度 99.99%，粒度分布窄、团聚度低，分散后可形成稳定浆料，适用于精密光学抛光、CMP 化学机械抛光、汽车尾气催化剂涂层及紫外吸收材料。

【技术参数】

【技术参数】

一次粒径 50nm；纯度 99.99%；晶型 立方萤石结构；比表面积 30-60 m2/g；灼烧减量 ≤1.0%；外观 淡黄色粉末。

【粒度检测数据】

马尔文 Hydro LV 湿法激光粒度实测：Dv(10)=0.0188μm，Dv(50)=0.0501μm，Dv(90)=0.1135μm，一致性 0.723，比表面积 154100 m2/kg。水分散体系下中位粒径约 50nm，分布区间窄，说明粉体分散后无明显大颗粒拖尾。

【应用案例】

1. 精密光学玻璃抛光：光学元件厂用 50nm 二氧化铈配制水基抛光液，抛光后表面粗糙度 Ra 可达 0.5nm 以下，且对玻璃基体损伤小，替代进口抛光粉用于镜头与滤光片加工。

2. CMP 化学机械抛光：用于蓝宝石衬底与硅片精抛工序，因粒径均匀、硬度适中，抛光速率稳定，划伤率低，浆料静置后不易沉降分层。

3. 汽车尾气催化剂：作为储氧组分与涂层材料，50nm 高比表面有利于贵金属分散，提升低温起燃性能与抗老化能力。

4. 紫外吸收与功能涂层：纳米二氧化铈在 300-400nm 有强吸收，可用于防晒及光学涂层配方，粒径小、透明度好，不影响基材外观。