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高分辨率厚膜正性光刻胶

photoresist
¥500 100g 起订
¥3000 1升 起订
¥7000 1加仑 起订
广东 更新日期:2026-09-28

广东吉田半导体材料有限公司

非会员
联系人:文忠正
手机:18938273891 拨打
邮箱:18938273891@163.com

产品详情:

中文名称:
光刻胶
英文名称:
photoresist
品牌:
吉田
产地:
广东东莞
保存条件:
0-10℃
产品类别:
光刻胶
YK-707是一款高厚度正性紫外光刻胶,适用于I/G-line。具有高解析度、高分辨率、高
陡直度和高对比度。特别适用于高厚度及高深宽比的需求设计。
• 粘度:常规 50-650cP(可定制)
• 膜厚: 2-20μm

• 涂布:具有优良的涂布性能,通过旋涂和喷涂可得到一系列不同需求的膜厚

参考工艺条件 :
涂布: 静态旋涂和动态喷涂
前烘: 110℃(电热板),5min
曝光: 700-1000mJ/cm2(13.6μm)
显影: JT-AF-2显影液,喷淋或浸渍(20-26℃)
后烘: 90℃(烤箱),30min



光刻胶;厚膜正性光刻胶;正胶;厚膜正胶;

公司简介

广东吉田半导体材料有限公司坐落于松山湖经济技术开发区,注册资本2000万元,是一家专注于半导体材料研发、生产和销售的高新技术企业和广东省专精特新企业及广东省创新型中小企业,我们的产品与许多世界级企业和知名电子加工企业建立了长期合作关系   公司产品主要有:芯片光刻胶,纳米压印光刻胶,LCD光刻胶,半导体锡膏,焊片,靶材等材料,公司是一个拥有23年研发与生产的综合性企业。   具有全自动化生产设备,企业愿景:做中国优质的半导体材料方案提供商。成功存在于细节之间,品质成就品牌力量。   公司按照ISO:2008质量体系标准,严格监控生产制程,生产环境严格执行8S现场管理,所有生产材料均采用美国、德国与日本及其他国家进口的高质量材料,确保客户能使用到超高质量及稳定的产品。   我们将继续秉承精湛的技术和专业的服务,致力于为客户提供更广泛的解决方案,共同推动半导体材料的发展。

成立日期 (4年)
注册资本 500万人民币
员工人数 10-50人
年营业额 ¥ 1000万-5000万
经营模式 工厂
主营行业

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