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半导体正性光刻胶替代AZ1500/S1813

photoresist
¥2000 1000g/瓶 起订
¥5000 1加仑 起订
¥300 100g/瓶 起订
广东 更新日期:2026-09-28

广东吉田半导体材料有限公司

非会员
联系人:文忠正
手机:18938273891 拨打
邮箱:18938273891@163.com

产品详情:

中文名称:
光刻胶
英文名称:
photoresist
品牌:
吉田
产地:
广东东莞
保存条件:
0-10℃

YK-301 正胶是适合 Spin Coating 方式涂布,适用于光刻应用,对 Si , SiO₂ 有 优秀附着力。具有高感光敏度, 较大的工艺宽容度,G-line/I-line通用,最小CD可达0.5μm,良好的涂布均一性。
推荐工艺条件
1) 涂布:23℃ , 旋涂
2) 前烘:100℃×90sec,Hot plate
3) 曝光:50~200mj/cm2
4) 显影:TMAH2.38%, 23.0±0.1℃ ,
5) 后烘:110℃×120sec,Hot plate
6) 剥离:丙酮/NMP
Dip or Spray,60sec
使用注意
1) 保存条件: 密封,黄光或暗室保存,远离热源与火种,温度 0-15℃。
2) 保质期: 6 个月
3) 使用点有适当通风,使用时注意穿戴必要的防护用品
4) 该产品限工业使用
5) 灭火方法: 二氧化碳,干粉,1211,砂土
紧急救护措施
1) 吸入: 转移至空气新鲜处,必要时进行人工呼吸或就医
2) 皮肤接触: 肥皂水清洗后自来水清洗
3) 眼睛接触: 流动清水清洗 15 分钟以上,必要时就医
4) 误食: 就医
正性光刻胶;正胶;光刻胶;薄胶;

公司简介

广东吉田半导体材料有限公司坐落于松山湖经济技术开发区,注册资本2000万元,是一家专注于半导体材料研发、生产和销售的高新技术企业和广东省专精特新企业及广东省创新型中小企业,我们的产品与许多世界级企业和知名电子加工企业建立了长期合作关系   公司产品主要有:芯片光刻胶,纳米压印光刻胶,LCD光刻胶,半导体锡膏,焊片,靶材等材料,公司是一个拥有23年研发与生产的综合性企业。   具有全自动化生产设备,企业愿景:做中国优质的半导体材料方案提供商。成功存在于细节之间,品质成就品牌力量。   公司按照ISO:2008质量体系标准,严格监控生产制程,生产环境严格执行8S现场管理,所有生产材料均采用美国、德国与日本及其他国家进口的高质量材料,确保客户能使用到超高质量及稳定的产品。   我们将继续秉承精湛的技术和专业的服务,致力于为客户提供更广泛的解决方案,共同推动半导体材料的发展。

成立日期 (4年)
注册资本 500万人民币
员工人数 10-50人
年营业额 ¥ 1000万-5000万
经营模式 工厂
主营行业

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