一氧化硅，氧化亚硅，精细陶瓷、半导体材料、锂电负极材料 新品

产品介绍

1、产品名：一氧化硅、氧化亚硅、氧化硅(II)、SiO

2、纯度：99.99%、4N、高纯、光学级、镀膜级、分析纯

3、形态：块状、颗粒、粉末、超细、纳米、微米、烧结块、1-40mm、200目

4、应用场景：光学镀膜、真空镀膜、冷光膜、保护膜、装饰镀膜、精细陶瓷、半导体材料、锂电负极材料

5、别名：氧化亚硅、高纯氧化亚硅、光学镀膜材料

我们提供的高纯一氧化硅产品又称氧化亚硅SiO，是一种具备特定物理化学特性的高纯化合物半导体材料，外观棕黑色粉末，纯度可达99.99%（4N级），通过工艺控制将痕量金属杂质含量维持在较低水平，以支持下游产品性能的稳定性需求。

形态与规格：可根据应用场景提供块状、颗粒、粉末等多种物理形态。块状产品结构致密，呈黑色甲壳状；粉末产品具有较高比表面积，适用于合成加工场景。

热学性能参数：熔点高于1700℃，沸点1880℃，在高温真空环境下具有较好的热稳定性。

化学稳定性：常温下化学性质稳定，不溶于水，不与碱发生反应，仅溶于氢氟酸与硝酸的混酸体系，适用于特定腐蚀环境下的材料设计。

主要应用方向

1. 真空镀膜与光学器件

一氧化硅是光学镀膜领域常用的蒸发材料之一。在真空环境中蒸发后，可用于制备保护膜、增透膜、冷光膜及干涉滤光片。其在550nm波长附近的折射率约为1.8~1.9，透光波段覆盖0.4至9微米范围，可满足部分光学器件的表面防护与光学调控需求。

2. 精细陶瓷与半导体材料

作为精细陶瓷合成的原料之一，一氧化硅微粉可用于制备氮化硅（Si₃N₄）、碳化硅（SiC） 等结构陶瓷材料。在半导体相关应用场景中，高纯SiO也作为部分电子功能材料的制备原料被采用。

3. 锂电负极材料

在锂离子电池领域，一氧化硅具有高于传统石墨的理论比容量，因此被视为下一代高密度负极材料的研究方向之一。当前行业普遍通过纳米化及预锂化工艺对SiO复合材料进行改性，以优化其循环性能与体积膨胀控制。

供应能力

我们支持从克级到吨级的灵活供货，具备从原料提纯到成品加工的完整生产能力。产品采用真空包装、避光避潮存储（标准规格为1kg/袋，亦可按需定制），以保障运输及存储阶段的产品品质。

使用注意事项

本产品为工业级/科研级材料，具体应用效果与工艺条件密切相关，建议用户根据实际设备与工艺参数进行充分验证。储存时请置于干燥、阴凉、通风环境，避免与氧化剂、酸类物质（氢氟酸/硝酸混酸除外）接触。