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芯片级双氧水去除酵素半导体触酶耐强碱高温SC1废液脱除剂保RO膜

High-Stability Catalase for Semiconductor Process
19 1kg 起订
山东 更新日期:2026-05-18

山东玲隆生物工程有限公司

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邮箱:455844846@qq.com

产品详情:

中文名称:
电子级双氧水脱除酵素
英文名称:
High-Stability Catalase for Semiconductor Process
品牌:
玲隆生物
产地:
山东枣庄
保存条件:
常温避光保存(或 4°C-25°C 阴凉处)
纯度规格:
电子级
别名:
半导体触酶 SC1废液净化剂
分子式:
生物大分子蛋白
主要用途:
针对SC1清洗废液、CMP抛光废液及芯片回用水系统,实现双氧水(H2O2)的ppb级脱除,防止RO反渗透膜氧化损耗,零盐分增加,延长核心耗材寿命
货号:
LL-Semic-2026

本产品是专为半导体、芯片制造及面板湿法工艺开发的高抗性生化触酶。

其核心优势在于突破了传统生物酶不耐强碱、不耐高温的局限,能够在复杂的工业废液环境中精准、极速地将双氧水(H2O2)分解为水和氧气,是保护下游 RO 反渗透膜、降低换膜成本的理想选择。

【核心卖点】

  1. 极速脱除,ppb级精度:最适反应条件下可实现双氧水的瞬时降解,彻底消除氧化残留。

  2. 硬核耐强碱性能:针对半导体 SC1 废液环境,在 pH 11.0 的强碱工况下放置 24 小时,活性依然维持在 88.59% 以上,无需中和调节 pH 即可直投。

  3. 卓越的热稳定能力:在 75°C 高温工况下保温 1 小时,酶活性保留率高达 89.40%,适配中高温清洗线需求。

  4. 保膜降本,绿色纯净:反应过程不产生无机盐(TDS),有效防止膜面结垢,显著延长 RO 膜使用寿命,综合运维成本降低 30% 以上。

【适用工况】

  1. 半导体清洗:RCA 清洗工艺(尤其是 SC1 段)后的双氧水脱除。

  2. 水回用系统:在 RO 膜前置工艺中彻底清除氧化剂,保障回用水安全。

  3. 化学机械抛光 (CMP):抛光废液的深度净化与氧化剂降解。


半导体专用触酶;SC1废液脱除剂;RO膜保护剂;芯片级除氧酶;

公司简介


成立日期 (2年)
注册资本 300万
员工人数 10-50人
年营业额 ¥ 100万-300万
经营模式 工厂
主营行业 催化剂及助剂,催化剂,助剂,酶

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