四羟丙基乙二胺102-60-3 EDTP 电镀中间体 缓冲剂 新品

四羟丙基乙二胺（Tetrahydroxypropyl ethylenediamine），CAS号为 102-60-3，是一种多羟基叔胺。常温下为粘稠液体，呈碱性，兼具配位能力。最核心的用途是作为印制电路板（PCB）电镀铜的整平剂和聚氨酯发泡的交联剂/催化剂。

基本信息与性质

分子式：C₁₄H₃₂N₂O₄

分子量：292.42

结构式：(HOCH₂CH₂CH₂)₂NCH₂CH₂N(CH₂CH₂CH₂OH)₂ （四个羟丙基取代在乙二胺的两个氮上）

外观：无色至浅黄色透明粘稠液体

熔点/凝固点：低于 -20 °C，低温仍为液态

沸点：常压下约 390–400 °C（伴随部分分解）；典型减压沸点约 220–235 °C（1.3 kPa）

密度：约 1.04–1.06 g/mL（20 °C）

折光率：n20/D ≈ 1.480–1.485

闪点：约 190–210 °C（开杯），可燃液体。

溶解性：

水：与任意比例水混溶，水溶液呈碱性（pH 约 9–11，依浓度而定）。

有机溶剂：易溶于乙醇、异丙醇、丙酮等极性溶剂，不溶于非极性烃类。

化学特性：

叔胺碱性：可中和酸、生成季铵盐，用作催化剂。

多元醇反应性：四个伯羟基（-OH）均可参与酯化、醚化、与异氰酸酯缩合等反应，是理想的交联剂。

金属络合能力：胺氮与羟氧原子可与铜离子等金属形成稳定络合物，这是其作为电镀整平剂的结构基础。

主要用途

电子电镀（最具特色和高附加值用途）

PCB酸性镀铜整平剂：这是它在电子工业中最核心的应用。作为光亮剂体系中的关键组分，它能选择性地吸附在

电流密度较高的凸起区域，抑制此处铜的过快沉积，而让电流密度较低的凹处优先镀上，从而实现填平微孔、细

化晶粒、获得光亮平整镀层的效果。对高密度互连板（HDI）通孔和盲孔的填充电镀至关重要。

其他电镀：在镀锡、镀锌等体系中作为辅助络合剂或晶粒细化剂。

聚氨酯工业

交联剂/扩链剂：利用其四个伯羟基，与异氰酸酯反应，可在聚氨酯硬泡、半硬泡、弹性体、涂料和胶粘剂中形

成高交联密度的三维网络，显著提高材料刚性与耐热性。

反应催化剂：其叔胺基团本身对异氰酸酯与水的发泡反应有温和催化作用，可减少部分外加锡催化剂的用量。

金属加工与表面处理

金属络合剂：在碱性化学镀、缓蚀剂、防锈液中作为协同配体，络合金属离子，稳定槽液。

切削液：用作碱性极压润滑与防锈组分，兼具抗微生物性能。

其他精细化工

环氧树脂固化剂/促进剂：可作为胺固化体系的活性稀释剂和柔韧性改性组分。

表面活性剂：中和或季铵化后可制备特种阳离子表面活性剂。

气体净化：酸性气体（如H₂S、CO₂）的吸收剂组分。