N-异戊腈基五羰基钨

一、核心应用：薄膜沉积前驱体（最主要用途）

1. 液态特性：室温下为黄色液体（密度 1.652 g/mL，25℃），无需复杂气化系统，输送与计量更便捷，适合连续化生产。

2. 稳定性与挥发性：常温对空气、水稳定，兼具足够挥发性，沉积温度适中（200–300℃），适配半导体、显示器件等低温工艺。

3. 成膜质量：分解产物纯净，可制备致密、均匀、低缺陷的钨 / 氧化钨薄膜，用于电子器件、电致变色器件、耐磨涂层等领域。

二、有机合成与催化应用

1. 钨源与配体交换试剂：作为 W (0) 源，通过配体取代反应合成其他钨配合物，是有机钨化学的重要合成砌块。

2. 催化反应：与烷基铝等助催化剂组合，可催化烯烃复分解、羰基化等反应，在精细化工、高分子合成中用于构建碳 - 碳键、制备功能化合物。

3. 有机金属中间体：用于合成含钨的金属有机试剂，参与还原、偶联、环加成等反应，拓展有机合成路线。

三、材料科学与其他领域

1. 钨基材料制备：热分解可制备高纯钨粉、纳米钨颗粒，用于硬质合金、催化剂载体、军工 / 航天用钨基复合材料。

2. 表面改性：作为沉积源对金属、陶瓷、高分子表面进行钨涂层改性，提升耐磨、耐腐蚀、导电 / 屏蔽性能。

3. 电致变色器件：沉积的氧化钨薄膜用于智能窗、显示屏、传感器，实现光 / 电调控变色功能。

四、安全与使用提示

• 该物质为有毒化学品（危险品标志 T，UN 3287，6.1 类），需在惰性气氛下低温（2–8℃）密封储存，避免接触强氧化剂，操作时严格防护。

• 作为前驱体时，需控制沉积温度与气氛，防止分解不完全或杂质引入，影响薄膜性能。