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3-(3-甲苯基脲基)苯基4-甲基苯磺酸酯 感光材料 博思特 新品

3-({[(4-methylphenyl)sulfonyl]carbamoyl}amino)phenyl 4-methylbenzenesulfonate
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江苏 更新日期:2026-01-30

江苏博思特化工科技有限公司

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产品详情:

中文名称:
3-(3-甲苯基脲基)苯基4-甲基苯磺酸酯
英文名称:
3-({[(4-methylphenyl)sulfonyl]carbamoyl}amino)phenyl 4-methylbenzenesulfonate
CAS号:
232938-43-1
品牌:
博思特
产地:
江苏
保存条件:
/
纯度规格:
0-99%
产品类别:
有机化工原料
别名:
显色剂NTF201

一、基本信息

名称:3-(3-甲苯基脲基)苯基 4-甲基苯磺酸酯

化学式:C₂₁H₂₀N₂O₄S

分子量:396.46 g/mol

CAS号:138628-64-7


二、物理性质

外观:白色至类白色结晶性粉末

熔点:具体文献数据较少,估计在150℃以上

溶解性:推测溶于DMF、DMSO、丙酮等强极性有机溶剂,微溶于醇类,不溶于水

特性:分子结构复杂,集成了脲基(-NHCONH-)连接臂、芳香环和甲苯磺酸酯离去基团

推测其设计旨在作为光致产酸剂或功能分子前体


三、化学性质与推测设计机理

推测为光致产酸剂:甲苯磺酸酯基:在紫外光照射下,分子吸收能量发生特定化学键断裂,高效释放强酸性的对甲苯磺酸。

脲基连接臂:用以连接发色团(此处为苯环)与产酸基团,调节分子的光吸收波长、热稳定性和溶解性。

作用:释放的酸在后续工艺中作为催化剂,引发酸敏材料的化学变化(如聚合、交联、脱保护)。


四、应用领域

主要用途:高科技光刻工艺:作为化学增幅型光刻胶的核心组分——光致产酸剂,主要用于半导体芯片制造中的深紫外(DUV,如248nm)或电子束(E-beam)光刻工艺,是精密图形转移的关键材料。


五、安全与储存

光敏性与刺激性:对紫外光敏感,操作需在黄光安全灯条件下进行。

粉末可能对呼吸道有刺激性。

防护与储存:操作时需佩戴手套、护目镜和防尘口罩。

必须严格避光(尤其紫外)、密封、干燥、冷藏保存。


3-(3-甲苯基脲基)苯基4-甲基苯磺酸;232938-43-1;感光材料;染料中间体;博思特;

公司简介

江苏博思特化工科技有限公司,是一家专注于创新化学产品研发的科技型企业。公司位于江苏省南通市。 作为一家创新型企业,江苏博思特化工科技有限公司致力于化学产品和工艺技术的创新和研究。我们拥有一支专业的研发团队,致力于为客户提供高质量的创新产品和技术服务。 我们的经营范围涵盖了食品添加剂、生物化工、香精香料、颜料染料、涂料建材、催化剂等多个领域,通过不断创新和技术迭代,伴随着客户共同成长。 江苏博思特化工科技有限公司将秉承专业、创新、高效的理念,不断提升自身服务能力,为客户创造更大的价值。我们期待与您携手合作,共同建设美好的未来。

成立日期 (4年)
注册资本 1000万人民币
员工人数 50-100人
年营业额 ¥ 1000万-5000万
经营模式 工厂
主营行业 染料中间体,香精和香料中间体,涂料,氨基酸及其衍生物

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