六甲基二硅氮烷

六甲基二硅氮烷

中文名称六甲基二硅氮烷

中文同义词1,1,1-三甲基-N-(三甲基甲硅烷基)硅烷胺;药用硅氮烷;六甲基二硅氮烷;六甲基二硅烷胺;六甲基二硅亚胺;1,1,1,3,3,3-六甲基二硅氮烷电子级;六甲基二硅基胺;1,1,1,3,3,3-六甲基二硅氮烷

英文名称Hexamethyldisilazane

CAS号999-97-3

分子式C6H19NSi2

分子量161.39

EINECS号213-668-5

形态液体

颜色无色

有机硅化合物六甲基二硅氮烷，英文缩写HMDS，一种重要的有机硅化合物，最常用来增加光刻胶在品圆表面附着力的底漆层，易燃且燃点为6.7℃，当在空气中的浓度为0.8%-16%时具有爆炸性，HMDS会强烈地与水、酒精和矿物质酸反应释放出氨水NH3，生成六甲基二硅醚。在催化剂存在下，与醇或酚反应，生成三甲基烷氧基硅烷或三甲基芳氧基硅烷。与无水氯化氢反应，放出NH3或NH4Cl，生成三甲基氯硅烷。

光刻胶应用六甲基二硅氮烷(HMDS)底涂通常在应用光刻胶之前使用。1970年，IBM的RHCollins和FTDevers在美国专利3,549,368中 描述了HMDS作为光刻胶粘合促进剂的用途。该工艺已从基于将晶圆浸入HMDS溶液中的做法逐步发展为基于蒸汽的过程。尽管可以通过旋涂将HMDS涂敷在晶圆上，但通常不推荐这样做，因为HMDS厚层的蒸汽蒸发会在后期造成问题。最典型的HMDS应用在真空室中，该真空室将基板的加热与暴露于HMDS蒸气相结合。