二甲胺基甲硼烷 74-94-2

1. 在印刷电路板（PCB）中的应用

在PCB制造中，DMAB主要用于 化学镀铜（Electroless Copper Plating） 的工艺中：

· 作用机制：
DMAB作为还原剂，将溶液中的铜离子（Cu²⁺）还原为金属铜（Cu），使其均匀沉积在非导电基材（如树脂基板）表面，形成导电层。这一步骤对后续电镀和电路导通至关重要。

· 优势：

o 与传统的甲醛还原剂相比，DMAB更环保且毒性更低。

o 反应条件温和（通常在室温或低温下进行），镀层均匀致密，附着力强。

o 适用于微孔（via）和精细线路的金属化，满足高密度互连（HDI）PCB的需求。

2. 在化学镀铜中的应用

化学镀铜广泛用于PCB孔金属化、半导体封装等领域：

· DMAB的作用：

o 提供稳定可控的还原能力，减少副反应（如氢气析出），避免镀层出现针孔或粗糙。

o 与络合剂（如EDTA）协同作用，维持镀液稳定性，延长使用寿命。

o 在无电镀铜中，DMAB常与其他添加剂（如加速剂、稳定剂）配合，优化沉积速率和镀层性能。

3. 在镀钯中的应用

钯（Pd）镀层常用于电子连接器、半导体封装等场景，作为镍的替代或金镀层的底层：

· DMAB的作用：

o 在化学镀钯中，DMAB作为还原剂将钯离子（Pd²⁺）还原为金属钯，形成致密、低应力的镀层。

o 相较于次磷酸钠等传统还原剂，DMAB镀液稳定性更高，副产物少，适合精密器件的镀覆。

o 钯镀层可提高耐腐蚀性和焊接性能，适用于高频高速电子设备。

4. 在镀镍中的应用

化学镀镍（Electroless Nickel Plating, EN）常用于金属表面防腐、耐磨处理：

· DMAB的作用：

o 在碱性或中性镀液中，DMAB作为还原剂替代次磷酸钠（NaH₂PO₂），将镍离子（Ni²⁺）还原为金属镍，形成Ni-B合金镀层。

o Ni-B镀层特点：硬度高、耐磨性好、耐腐蚀性强，且可通过热处理进一步提升性能。

o 适用于复杂形状工件的均匀镀覆，如航空航天部件或精密模具。

DMAB的优势总结

1. 环保性：毒性低于甲醛和部分硼氢化物，符合RoHS和WEEE等环保法规。

2. 工艺稳定性：镀液寿命长，反应副产物少（主要生成二甲胺和硼酸），易于处理。

3. 镀层质量：沉积层致密、孔隙率低，适合高精度电子元件的表面处理。

4. 灵活性：可在较宽的温度和pH范围内使用，适配不同金属沉积需求。

应用案例

· PCB孔金属化：DMAB用于通孔和盲孔的化学镀铜，确保导通可靠性。

· 半导体封装：在芯片载板（substrate）的钯/镍镀层中提高焊接性和抗迁移性。

· 汽车电子：连接器镀钯或镍以增强耐腐蚀性，延长使用寿命。

DMAB因其高效、环保的特性，在高端电子制造和精密表面处理领域具有重要地位。实际应用中需结合镀液配方设计和工艺参数优化，以充分发挥其性能。