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晶圆厚度测量仪

Wafer Thickness Measuring
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上海 更新日期:2025-12-30

那诺中国有限公司

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邮箱:moses.zhang@nano-china.com

产品详情:

中文名称:
晶圆厚度测量仪
英文名称:
Wafer Thickness Measuring
品牌:
E+H
产地:
德国
产品类别:
晶圆厚度测量仪
外形尺寸:
1026x737x1537mm
电源电压:
220V
型号:
MX 102-8
加工定制:
测量范围:
150mm,200mm
测量精度:
±0.4μm
分辨率:
18 bit
规格:
保修期:
一年
用途:
晶圆厚度测量
是否进口:

晶圆厚度测量仪 MX 102-8


适用于 150 - 200 mm硅片的高分辨率厚度与平整度(TTV)测量仪。只需几秒钟即可轻松适应不同厚度范围,可集成到自动机器人分拣系统中。适用于研发、工艺验证以及厚度和平整度(TTV)的工艺控制。一对电容式传感器会在每片晶圆上测量四个径向轮廓(45 度角)。其中一个轮廓包含 200 个局部厚度值,并相对于相邻轮廓偏移 45 度。配有强大的 MX-NT 操作软件。

晶圆厚度测量仪 MX 102-8

仪器功能:
晶圆厚度测量仪 MX 102-8基于已有的适用于 150 mm和 200mm晶圆的类似测量设备,MX 102 能够生成四个(或八个)径向剖面图,每个剖面图包含数百个精确的厚度数据点。该设备配备了一对分辨率为 10 纳米的电容式传感器,能够在数秒内快速适应不同的厚度测量范围。在每次扫描之前,设备会通过一个经过认证的标准量块实现自动重新校准,以确保测量结果的高度准确性。


多次扫描:
对于众多应用场景而言,标准的四次径向扫描通常已能满足需求,特别是针对经过研磨处理后接近旋转对称特性的晶圆。从理论角度分析,通过增加扫描次数,可实现对晶圆表面约 50% 区域的覆盖。然而,由于晶圆支撑结构的存在,其余部分区域则会位于支撑点所形成的“遮挡范围”内,难以直接进行扫描。


XN-Option:
针对 200 mm晶圆,通过引入一种简易的附加运动即可有效解决上述问题。在测量周期的第一阶段完成后,晶圆将被抬升,并由两个夹具进行临时固定,与此同时,晶圆下方的转盘执行 45 度旋转操作。随后,晶圆重新下降至支撑结构,并由真空吸盘完成二次夹紧,此时测量周期的第二阶段随即启动,从而实现对剩余区域的全面覆盖。

晶圆厚度测量仪 MX 102-8


MX 102 在分辨率与通量之间实现了优化平衡:第二次扫描周期的偏移角度为 22.5 度,从而生成八个交叉扫描剖面,总测量点数可达约 2400 个或更多。通过简单的三维图形化展示,能够直观呈现晶圆的整体几何特性。

晶圆厚度测量仪 MX 102-8

重复性示例:

晶圆厚度测量仪 MX 102-8


技术参数:
晶圆直径:150mm,200mm
准确性:±0.1μm
分辨率:10nm
空间分辨率:1mm
扫描次数:4

软件:MXNT


相关产品:

型号MX 102-6MX 102-8MX 1012MX 1018
晶圆尺寸4'', 5'', 6''6'', 8''8'', 12''12'', 18''
准确性±0.1μm±0.1μm±0.1μm±0.3μm
分辨率10nm10nm10nm10nm
空间分辨率1mm1mm1mm1mm
扫描次数44up to 8up to 8
厚度动态范围100 or 350μm100 or 350μm100 or 350μm100 or 350μm
软件MXNTMXNTMXNTMXNT











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公司简介

那诺中国有限公司是一家高科技技术服务公司,专注于为大中华区域(包括中国大陆、香港、澳门和台湾)的高校、科研院所、企业研发与生产等企业机构提供基于飞行时间质谱仪的高性能科学仪器。 我们可以提供高性价比的定制化仪器 ,因为我们能够重复使用现有的设计模块,这些来源于我们庞大的、 有据可查的后台目录中。这些预先存在的机械信息,结合所需要的任何一次性工程,使我们能够根据客户的具体要求生产出价格合理的仪器。 我们的飞行时间二次离子质谱仪不仅适用于实验室实验,也适用于现场实时分析,在环境卫生、工业和生产、生物科学、材料科学、半导体、电子等行业均有广泛的应用。

成立日期 (11年)
注册资本 100万
员工人数 1-10人
年营业额 ¥ 1000万-5000万
经营模式 贸易,工厂,定制,服务
主营行业 质谱,元素分析仪,环境水质/污水检测仪器,环境空气质量及废弃检测,表面/界面性能测定仪

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