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四(二甲胺基)锆-电子级ALD/CVD前驱体源

TETRAKIS(DIMETHYLAMINO)ZIRCONIUM
19756-04-8
询价 25g 起订
50g 起订
100g 起订
江苏 更新日期:2024-08-14

苏州龙扬生化科技有限公司

非会员
联系人:龚云龙
手机:18136988733 拨打
邮箱:sales@ly-biochem.com

产品详情:

中文名称:
四(二甲胺基)锆
英文名称:
TETRAKIS(DIMETHYLAMINO)ZIRCONIUM
CAS号:
19756-04-8
品牌:
龙扬生化
产地:
江苏
保存条件:
常温
纯度规格:
99.9999%
产品类别:
ALD/CVD电子级前驱体源
别名:
TDMAZ
分子式:
C8H24N4Zr

 对于栅介质层,由于其厚度一般在10nm以下,ALD技术成为制备栅介质层的首选,已经用于Intel 45nm节点的MOS管的制备过程中。相较于CVD、PVD,ALD可以原子级厚度水平控制膜层的沉积,存储介质可通过ALD或CVD技术制成,而ALD具有优越的阶梯覆盖能力,在高深宽比的DRAM中其应用将不断增加。

      本公司提供和开发CVD/ALD所需的前驱体源,包括可用于沉积高k栅介质层HfO、用于存储介质层的ZrO、TiO、TaO₅等材料的前驱体。以下为本公司在售的部分前驱体材料:


介质层前驱体名称缩写
HfOHf[N(CH₃(CH)]₄四(甲乙氨基)铪TEMAH
Hf[N(CH)]四(二乙氨基)铪TDEAH
Hf[N(CH)]四(二甲氨基)铪TDMAH
HfCl四氯化铪-
ZrOZr[N(CH)]四(二甲氨基)锆TDMAZ
Zr[N(CH)]四(二乙氨基)锆TDEAZ
Hf[N(CH)(CH)]四(甲乙氨基)锆TEMAZ
TiOTiCl四氯化钛-
Ti[N(CH)]四(二甲氨基)钛TDMAT
TaOTa[N(CH)]五(二甲氨基)钽PDMAT


四(二甲胺基)锆;TDMAZ;19756-04-8;ALD/CVD前驱体源;TETRAKIS(DIMETHYLAMI;

公司简介

苏州龙扬生化科技有限公司成立于 2020年 5 月,坐落于江苏省张家港锦丰镇,是目前国内专业从事 ALD/CVD 材料研发、生产、销售于一体的高科技企业。公司由高纯电子化学品领域的资深专家所创建,具有丰富的前驱体研发和生产管理经验。公司主要经营原子层淀积(ALD)及化学气相淀积(CVD)前驱体源材料、前驱体包装容器等,为国内外用户提供高纯度多种类的 ALD/CVD 源材料,以及优质的源瓶配套服务。 目前,相关产品已在国内科研院所和企业单位批量使用,产品质量达到国际先进水平。同时与国内外ALD/CVD设备公司以及知名大学与研究所建立了长期的合作关系,时刻跟踪行业发展动态,为中国集成电路相关行业发展夯实基础。

成立日期 (4年)
注册资本 500万
员工人数 1-10人
年营业额 ¥ 1000万-5000万
经营模式 贸易,工厂,试剂,定制,服务
主营行业 纳米材料,有机光电,微纳米电子技术,合成材料

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