四(二甲胺基)铪-电子级ALD/CVD前驱体源

TETRAKIS(DIMETHYLAMIDO)HAFNIUM(IV)
19782-68-4

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江苏更新日期：2024-08-14

苏州龙扬生化科技有限公司

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产品详情:

中文名称：: 四(二甲胺基)铪

英文名称：: TETRAKIS(DIMETHYLAMIDO)HAFNIUM(IV)

CAS号：: 19782-68-4

品牌：: 龙扬生化

产地：: 江苏

保存条件：: 常温

纯度规格：: 99.9999%

产品类别：: ALD/CVD电子级前驱体源

别名：: TDMAH

分子式：: C8H24N4Hf

对于栅介质层，由于其厚度一般在10nm以下，ALD技术成为制备栅介质层的首选，已经用于Intel 45nm节点的MOS管的制备过程中。相较于CVD、PVD，ALD可以原子级厚度水平控制膜层的沉积，存储介质可通过ALD或CVD技术制成，而ALD具有优越的阶梯覆盖能力，在高深宽比的DRAM中其应用将不断增加。

本公司提供和开发CVD/ALD所需的前驱体源，包括可用于沉积高k栅介质层HfO₂、用于存储介质层的ZrO₂、TiO₂、Ta₂O₅等材料的前驱体。以下为本公司在售的部分前驱体材料：

介质层	前驱体	名称	缩写
HfO₂	Hf[N(CH₃(C₂H₅)]₄	四（甲乙氨基）铪	TEMAH
	Hf[N(C₂H₅)₂]₄	四（二乙氨基）铪	TDEAH
	Hf[N(CH₃)₂]₄	四（二甲氨基）铪	TDMAH
	HfCl₄	四氯化铪	-
ZrO₂	Zr[N(CH₃)₂]₄	四（二甲氨基）锆	TDMAZ
	Zr[N(C₂H₅)₂]₄	四（二乙氨基）锆	TDEAZ
	Hf[N(CH₃)(C₂H₅)]₄	四（甲乙氨基）锆	TEMAZ
TiO₂	TiCl₄	四氯化钛	-
TiO₂	Ti[N(CH₃)₂]₄	四（二甲氨基）钛	TDMAT
Ta₂O₅	Ta[N(CH₃)₂]₅	五（二甲氨基）钽	PDMAT

四(二甲胺基)铪;TDMAH;19782-68-4;TETRAKIS(DIMETHYLAMI;ALD/CVD前驱体源;

苏州龙扬生化科技有限公司成立于 2020年 5 月，坐落于江苏省张家港锦丰镇，是目前国内专业从事 ALD/CVD 材料研发、生产、销售于一体的高科技企业。公司由高纯电子化学品领域的资深专家所创建，具有丰富的前驱体研发和生产管理经验。公司主要经营原子层淀积（ALD）及化学气相淀积（CVD）前驱体源材料、前驱体包装容器等，为国内外用户提供高纯度多种类的 ALD/CVD 源材料，以及优质的源瓶配套服务。目前，相关产品已在国内科研院所和企业单位批量使用，产品质量达到国际先进水平。同时与国内外ALD/CVD设备公司以及知名大学与研究所建立了长期的合作关系，时刻跟踪行业发展动态，为中国集成电路相关行业发展夯实基础。

成立日期	(4年)
注册资本	500万
员工人数	1-10人
年营业额	￥ 1000万-5000万
经营模式	贸易,工厂,试剂,定制,服务
主营行业	纳米材料,有机光电,微纳米电子技术,合成材料