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美国进口 光学轮廓仪 Zeta-300 多模式三维光学轮廓仪

Optical Profiler
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上海 更新日期:2024-07-11

那诺-马斯特中国有限公司

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联系人:张经理
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邮箱:moses.zhang@nano-china.com

产品详情:

中文名称:
美国 光学轮廓仪 Zeta-300 多模式三维光学轮廓仪
英文名称:
Optical Profiler
品牌:
KLA
产地:
美国
产品类别:
半导体量测设备

产品描述


Zeta-300 光学轮廓仪是一款非接触式3D表面形貌测量系统。Zeta-300 以 Zeta-20 3D 轮廓仪的功能为基础,具有额外的防震选项和灵活的配置,可处理更大的样品。该 3D 光学量测系统由已获得专利的 ZDot 技术及多模式光学组件提供支持,可支持各种样品测量:透明和不透明、低反射率和高反射率、光滑表面和粗糙表面,以及从纳米到厘米范围的台阶高度。

Zeta-300 光学轮廓仪将六种不同的光学量测技术集成到一个可灵活配置且易于使用的系统中。ZDot测量模式同时收集高分辨率的3D扫描信息和样品表面真彩色图像。其他3D测量技术包括白光干涉测量法、诺马斯基光干涉对比显微法和剪切干涉测量法,膜厚测量包含使用ZDot模式测量和光谱反射的测量方法。Zeta-300 也是一款高端显微镜,可用于抽样检查或缺陷自动检测。Zeta-300 3D 轮廓仪通过提供全面的台阶高度、粗糙度及薄膜厚度测量以及缺陷检测功能,来支持研发 (R&D) 和生产环境。







Zeta-300 光学轮廓仪特征优势

  • 配合ZDot及多模式光学组件,光学轮廓仪可以容易地实现各种各样的应用

  • 用于抽样检查和缺陷检测的高质量显微镜

  • ZDot:同时收集高分辨率的3D扫描扫描信息和样品表面真彩色图像

  • ZXI:采用z方向高分辨率的广域测量白光干涉仪

  • ZIC:图像对比度增强,可实现亚纳米级粗糙度表面的定量分析

  • ZSI:z方向高分辨率

  • 图像的剪切干涉测量法

  • ZFT:通过集成式宽频反射测量法测量薄膜厚度和反射率

  • AOI:自动光学检测,可量化样品缺陷

  • 生产能力:具有多点量测和图形识别功能的全自动测量






Zeta-300 光学轮廓仪应用功能


    • 台阶高度:从纳米级到毫米级的3D 台阶高度

    • 表面:光滑表面到粗糙表面上的粗糙度和波纹度测试

    • 翘曲:2D或3D翘曲

    • 应力:2D或3D薄膜应力

    • 薄膜厚度:透明薄膜厚度由 30nm 至 100µm 不等

    • 缺陷检测:捕获大于 1µm 的缺陷

    • 缺陷表征:KLARF 文件可用于寻找缺陷,以确定划痕缺陷位置,测量缺陷3D表面形貌




Zeta-300 光学轮廓仪应用领域

  • 发光二极管(LED)

  • 发光二极管和 PSS(图形化的蓝宝石衬底)

  • 半导体和化合物半导体

  • 半导体 WLCSP(晶圆级芯片封装)

  • 半导体 FOWLP(扇出晶圆级封装)

  • PCB(印刷电路板)和柔性印刷电路板

  • MEMS:微机电系统

  • 医疗器械和微流体器件

  • 数据存储

  • 大学、研究实验室和研究所



Zeta-300 光学轮廓仪应用案例

肖特玻璃-表面粗糙度

        可用来测试玻璃等透明表面及不透明表面的形貌和表面粗糙度



太阳能电池–不同反射率表面形貌测量

        轻松获得复杂差异化反射率样品的表面形貌



MEMS器件–台阶高度和粗糙度

    小尺寸样品nm级台阶精度,大尺寸样品的亚微米台阶精度



镜头-完整的表面轮廓

       图像拼接功能,可获得大面积样品的完整表面轮廓


高分子薄膜-膜厚测量

       可用于PI和PR薄膜的厚度测量,并可生成整片晶圆上的膜厚mapping





蓝宝石-图案化晶片表面缺陷

        可对特定缺陷进行三维轮廓扫描并进行相关测量,并对晶圆表面缺陷按尺寸、亮度、长宽比等进行分布统计并生成mapping






光学轮廓仪 ;高精度光学轮廓仪;3D光学轮廓仪;白光干涉仪;三维光学轮廓仪;

公司简介

那诺-马斯特中国有限公司成立于2015年4月,是服务大中华区(包含中国大陆,香港,台湾和澳门)的客户,同时我们在中国大陆设有专门的服务办公室,提供销售和售后技术服务。 那诺-马斯特中国的主要产品包括薄膜沉积设备、薄膜生长设备、干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备及太空模拟测试设备等等。Nano-Master的前身是那诺-马斯特美国,该公司是法国那诺-马斯特有限公司于1992年在美国所创立的全资子公司,是一家国际领先的缺陷检测和高速镀层测量的计量公司。自从1993年开始Birol Kuyel博士全面接管那诺-马斯特美国并正式更名。 自2001年Nano-Master开始设计开发薄膜应用方面的设备,正式面世的系统依次是磁控溅射、PECVD、晶圆/掩模版清洗系统…。应用领域涵盖了半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等。我们的设备包含用于二氧化硅、氮化硅、类金刚石和CNT沉积的PECVD,用于InGaN、AlGaN生长的PA-MOCVD,溅射镀膜(反应溅、共溅 、组合溅),热蒸发和电子束蒸发,离子束刻蚀和反应离子刻蚀,原子层沉积,兆声清洗以及光刻胶剥离等。三十年左右的时间内Nano-Master已经发展成为全球薄膜设备的供应商,已售出的几百套设备分布于20多个不同国家的大学、研发中心和国家重点实验室。 我们聘用技术熟练并具有良好教育背景的设计和制造工程师、应用工程师、服务

成立日期 (10年)
注册资本 100万人民币
员工人数 1-10人
年营业额 ¥ 1000万-5000万
经营模式 定制
主营行业 其他仪器耗材

内容声明
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