武汉吉和昌新材料股份有限公司

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吉和昌铜箔添加剂聚二硫二丙烷磺酸钠SPS、噻唑烷-2-硫酮H1的应用

发布人:武汉吉和昌新材料股份有限公司

发布日期:2026/1/23 13:58:12

吉和昌深耕精细化工行业20余年,旗下生产销售的聚二硫二丙烷磺酸钠SPS(CAS NO. 27206-35-5)、噻唑烷-2-硫酮H1(CAS NO. 96-53-7)凭借其高纯度高性能广泛应用于铜箔制造领域。

其中SPS纯度≥98%,是铜箔专用添加剂,精准适配高端铜箔生产。它可显著细化镀层结晶,瓦解粗大晶粒结构,兼具优异光亮与整平功效,赋予铜箔均匀细腻光泽,同时大幅提升抗拉强度与延展率,为后续压延、分切等加工筑牢品质根基。

SPS(200).jpg

H1纯度≥99%,是优异的酸性镀铜光亮剂,更是铜箔生产的重要添加剂。它不仅能细化铜层晶粒、降低表面粗糙度,打造结构致密的镜面级铜箔,更核心优势在于与SPS的协同增效。其硫氮组分能锚定沉积活性位点,抑制铜离子无序沉积,进一步强化铜箔力学性能,大幅降低加工断裂风险,提升生产良率。

H1(200).jpg

两款产品适配场景广泛,契合PCB高端载板、锂电池集流体铜箔、装饰性电镀等严苛需求。在锂电领域,可增强极片活性物质附着力,提升电池循环稳定性与安全性;在PCB制造中,助力精细电路镀层均匀致密。此外,H1的高纯特性还可延伸至医药、农药中间体等精细化工领域,实现一料多用。二者以稳定纯度与精准性能调控,为电子、新能源等领域品质升级注入核心动力。



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