1YR企业会员
发布人：上海药诚医药科技合伙企业（有限合伙）
发布日期:2026/9/2 10:14:11
CAS：911683‑93‑7英文：Triphenyl sulfonium, salt with 1‑(difluorosulfomethyl)‑2,2,2‑trifluoroethyl tricyclo[3.3.1.1³⁷]decane‑1‑carboxylate (1:1)
类别：离子型光致产酸剂 (PAG，光刻胶核心电子化学品)，1:1 代表阴离子：三苯基硫鎓阳离子摩尔比 1 比 1。
外观：白色至类白色固体粉末
主流纯度：HPLC≥98%；电子级要求≥99.5%，金属离子 ppb 级别
溶解性：溶于丙二醇甲醚醋酸酯 PMA、乙腈、二氯甲烷；微溶于烷烃；不溶于水
储存：避光、低温‑20℃密封保存，遇光易分解；避强碱环境
危险属性：普通精细电子化学品，非危化品。
阳离子：三苯基硫鎓 (TPS⁺)；阴离子：含金刚烷环 + 多氟磺酸基团的金刚烷甲酸酯磺酸根。
曝光（ArF‑193nm）时三苯基硫鎓阳离子光解，释放强含氟磺酸；金刚烷大环状结构可以限制酸扩散，光刻得到更锐利图形、降低边缘粗糙度。
ArF (193nm) 化学放大光刻胶专用光产酸剂 PAG，半导体芯片光刻，高分辨制程；阴离子自带金刚烷，兼顾产酸强度 + 酸扩散控制，改善光刻线条粗糙度 LWR。
微电子光敏树脂、负性光刻胶、光固化介电材料。
相关新闻资讯
