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发布人：北京百灵威科技有限公司
发布日期:2026/6/16 10:51:35
7月24日，第二十七届中国科协年会“电子化学品关键材料设计与制备”专题论坛在京召开。张锁江院士指出，电子化学品是半导体制造、新能源、5G等战略性新兴产业的基石，亟需突破多尺度精准调控、批量一致性及超高纯分离等关键技术瓶颈。我司长期深耕电子信息化学品领域，提供光刻胶用单体与光引发剂、湿法蚀刻液、高纯清洗溶剂及薄膜沉积前驱体等系列产品，助力我国电子化学品产业链从“跟跑”向“并跑”跨越。
- - 光刻胶关键单体齐全：提供含氟丙烯酸酯、金刚烷衍生物、环状单体等数十种光刻胶用单体，适用于ArF、KrF及EUV光刻胶体系，金属离子含量可控制在≤50ppb。
- - 高纯湿法电子化学品：氢氟酸、四甲基氢氧化铵（TMAH）、丙二醇单甲醚乙酸酯（PGMEA）等达到EL/ELH级，金属杂质＜0.1ppb，满足晶圆清洗、蚀刻、显影等工艺要求。
- - 薄膜沉积前驱体：提供四(二甲氨基)钛、二(二乙氨基)硅烷、三(二甲胺基)硅烷等CVD/ALD前驱体，纯度≥99.99% metal basis，支持钢瓶定制。
- - 光致产酸剂与光引发剂：三苯基硫三氟甲烷磺酸盐、二苯基碘鎓盐系列产品，纯度≥98%，适用于化学放大光刻胶体系。
- - 半导体光刻胶（ArF、KrF、EUV、i-line）单体及添加剂研发与生产
- - 晶圆制造中湿法蚀刻、清洗、显影工艺
- - 薄膜沉积（CVD/ALD）前驱体材料开发
- - 电子化学品超高纯分离、纯化及痕量杂质控制项目
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