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百灵威光刻胶引发剂:精准激发光能,定义图形边界

发布人:北京百灵威科技有限公司

发布日期:2026/1/13 16:10:24

在光刻工艺中,光引发剂是承接光能并触发树脂体系发生化学变化的核心组分。其选择直接关系到光刻胶的感光速度、穿透深度、固化程度以及最终线条的陡直度。

百灵威深耕光化学品领域,构建了业内领先的光引发剂产品矩阵,以满足不同波长与工艺的苛刻需求:

1. 高性能核心引发剂:二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦(TPO) 和苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦(819) 等高效酰基膦氧化物类产品。这类引发剂吸收波长长、分解效率高,适用于厚膜胶或有色体系,能实现深层快速固化。

2. 经典与特种引发剂:产品线包括经典的二苯甲酮及其衍生物(如4,4'-双(二乙氨基)二苯甲酮),它们常与胺类助引发剂配合,具有成本效益与表面固化优势。2-甲基-4'-(甲硫基)-2-吗啉基苯丙酮等特种吗啉酮类引发剂,以及2-苄基-2-(二甲氨基)-4'-吗啉苯丁酮,它们具有优异的引发活性与储存稳定性,是许多高性能配方的不二之选。

3. 全面覆盖的辅助品类:产品涵盖硫杂蒽酮类(如2,4-二乙基硫杂蒽酮)、α-羟基酮类(如HHMP) 及安息香醚类等多种类型,为客户进行配方优化、光谱调节和性能平衡提供了极其丰富的选择空间。

百灵威光引发剂优势:

✅ 品类齐全,一站式供应:从基础到高端,全面覆盖主流及特种引发剂,满足客户从研发到量产的全周期需求。

✅ 聚焦前沿,引领创新:重点供应如TPO、819等代表行业高效能方向的产品,助力客户开发先进光刻与固化工艺。

✅ 品质稳定,值得信赖:严格的质量控制确保产品高纯度与批次一致性,为光刻工艺的稳定再现提供坚实基础。

选择百灵威,即是选择了一个强大、可靠的光化学反应解决方案伙伴。我们致力于以最优质的光引发剂产品,赋能每一道光刻,刻画无限精准。

 产品列表
品名CAS货号
2,4-Diethyl-9H-thioxanthen-9-one, 98%
2,4-二乙基-9H-硫杂蒽-9-酮
82799-44-8
2-Benzyl-2-(dimethylamino)-4'-morpholinobutyrophenone, 97.5%
2-苄基-2-二甲基氨基-4'-吗啉基苯丁酮
119313-12-1
4,4'-Dichlorobenzophenone, 99%
4,4'-二氯二苯甲酮
90-98-2
2,2-Diethoxyacetophenone, 97%
2,2-二乙氧基苯乙酮
6175-45-7
Acetophenone, 98%
苯乙酮
98-86-2
Benzil, 99%
偶苯酰
134-81-6
Benzophenone, 99%
二苯甲酮
119-61-9
1-Phenyl-1,2-propanedione-2-oxime, 99%
1-苯基-1,2-丙二酮-2-肟
119-51-7
Benzoin ethyl ether, 99%
安息香乙醚
574-09-4
1-Hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 99%
1-羟基环己基苯基甲酮
947-19-3
4-Benzoylbenzoic acid, 99%
4-苯甲酰基苯甲酸
611-95-0
Methyl 2-benzoylbenzoate, 99%
2-苯甲酰苯甲酸甲酯
606-28-0
Benzoin, 98%
安息香
119-53-9
2-Methyl-4'-(methylthio)-2-morpholinopropiophenone, 99%
2-甲基-4'-(甲硫基)-2-吗啉基苯丙酮
71868-10-5
Benzoin methyl ether, 98%
安息香甲基醚
3524-62-7
2,2-Dimethoxy-2-phenylacetophenone, 99%
2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮
24650-42-8
Diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide, 99%
(2,4,6-三甲基苯甲酰基)二苯基氧化膦
75980-60-8
4,4'-Bis(diethylamino)benzophenone, 99%
4,4'-双(二乙氨基)二苯甲酮
90-93-7
Phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide, 97%
苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦
162881-26-7
Acetophenone
苯乙酮
98-86-2
Diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine Oxide
二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦
75980-60-8
2-Hydroxy-4’-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone
2-羟基-4’-(2-羟基乙氧基)-2-甲基苯丙酮
106797-53-9
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3-Mercaptopropyltrimethoxysilane, 97%
3-巯基丙基三甲氧基硅烷
4420-74-0
Methyl methacrylate, 99%
甲基丙烯酸甲酯
80-62-6
153563
危化品
Bicyclo[2.2.1]hepta-2,5-diene, 97%
双环[2.2.1]庚-2,5-二烯
121-46-0
499281
危化品
1,1,1,3,3,3-Hexafluoroisopropyl acrylate, 99%, stabilized with MEHQ
1,1,1,3,3,3-六氟异丙基 丙烯酸酯
2160-89-6
1,1,1,3,3,3-Hexafluoroisopropyl methacrylate, 99%
1,1,1,3,3,3-六氟异丙基 甲基丙烯酸酯
3063-94-3
2-(4-Methoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine, 98%
2-(4-甲氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)-1,3,5-三嗪
42573-57-9
4-Isopropyl-4'-methyldiphenyliodonium tetrakis(pentafluorophenyl)borate, 98%
4-异丙基-4'-甲基二苯基碘鎓四(五氟苯基)硼酸盐
178233-72-2
Bis(4-tert-butylphenyl)iodonium triflate, 98%
双(4-叔丁基苯基)碘鎓三氟甲磺酸盐
84563-54-2
Diphenyliodonium hexafluorophosphate, 98%
六氟磷酸二苯基碘鎓盐
58109-40-3
Diphenyliodonium nitrate, 97%
二苯基碘鎓硝酸盐
722-56-5
Diphenyliodonium triflate, 98%
二苯基碘鎓三氟甲磺酸盐
66003-76-7
3038 Photoresist developer, 2.380 ± 0.01wt%, high-purity, main component TMAH
3038正胶显影液
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Negative gel developer FX-A, 95%, High purity
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